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發(fā)布時(shí)間:2021-06-20 04:58  
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氣體管道安裝工程要求:
(一)工作壓力大于或者等于0.1MPa(表壓,下同)的;
(二)公稱直徑大于25mm的;注1:公稱直徑即公稱通徑、公稱尺寸,代號一般用DN表示。《壓力管道元件制造許可規(guī)則》:本規(guī)則所稱公稱直徑根據(jù)相關(guān)標(biāo)準(zhǔn),依據(jù)不同的管材、管件,可以指公稱外徑、公稱內(nèi)徑、通徑和口徑、公稱尺寸。
(三)輸送介質(zhì)為氣體、蒸汽、液化氣體、工作溫度高于或者等于其標(biāo)準(zhǔn)沸點(diǎn)的液體或者可燃、易i爆、有毒、有腐蝕性的液體的。銅管只使用在氣體管路的末端和氣體純度不是要求太嚴(yán)格的地方(比如通風(fēng)柜)。根據(jù)原勞動部《壓力管道安全管理與監(jiān)察規(guī)定》和質(zhì)檢總局《壓力容器壓力管道設(shè)計(jì)許可規(guī)則》TSGR1001-2008的定義,工業(yè)管道是指企業(yè)、事業(yè)單位所屬的用于輸送工藝介質(zhì)的工藝管道、公用工程管道及其他輔助管道。

集中供氣系統(tǒng)的特點(diǎn)
1、特點(diǎn):實(shí)驗(yàn)室要求使用載氣流量恒定、氣體純度高,為實(shí)驗(yàn)室選用的分析設(shè)備提供量值和壓力穩(wěn)定的氣體。
2、經(jīng)濟(jì)性:建一個(gè)集中的氣瓶間可以節(jié)省有限的實(shí)驗(yàn)室空間,更換鋼瓶時(shí)不需要切斷氣體,保證氣體的連續(xù)供應(yīng)。⑥管道與設(shè)備的連接段宜采用金屬管道,如為非金屬軟管,宜采用聚四氟乙烯管、聚氯i乙烯管,不得采用乳膠管。使用者只需管理較少的鋼瓶,支付較少的鋼瓶租金,因?yàn)槭褂猛粴怏w的所有使用點(diǎn)來自于同一個(gè)氣源。此種供應(yīng)方式會減少運(yùn)輸費(fèi)用,減少退還給氣體公司的空瓶中的余氣量,以及良好的鋼瓶管理。
3、使用率:集中管道供應(yīng)系統(tǒng)可以將氣體出口放置在使用點(diǎn)處,這樣的話可以更合理的設(shè)計(jì)工作場所。
4、安全性:保證其儲存和使用的安全性。保障分析測試人員在實(shí)驗(yàn)中免受有毒有害氣體的侵害。

高純氣體管路的設(shè)計(jì)要點(diǎn):
1.對于不同特性的氣體,要規(guī)劃獨(dú)立的供應(yīng)區(qū)域,一般分為三個(gè)區(qū):腐蝕性/毒性氣體區(qū)、可燃性氣體區(qū)、惰性氣體區(qū),將相同性質(zhì)的氣體集中加強(qiáng)管理,可燃性氣體區(qū)要特別規(guī)劃防爆墻與泄漏口,若空間不足,可考慮將惰性氣體放置與毒性/腐蝕性氣體區(qū)。
2.管路設(shè)計(jì)需要考慮輸送的距離,距離越長,成本越高,風(fēng)險(xiǎn)也越高,通常較合理的設(shè)計(jì)流速為20ml/S,可燃性氣體小于10ml/S,毒性/腐蝕性氣體小于8ml/S,在用量設(shè)計(jì)方面,則需要考慮使用點(diǎn)的壓力和管徑大小,前者與氣體特性有關(guān),后者使用點(diǎn)的管徑一般為1/4”~3/8”。為了保證管道的強(qiáng)度和剛度,必須設(shè)置各種支(吊)架,如活動支架、固定支架、導(dǎo)向支架和彈簧支架等。
3.根據(jù)用氣設(shè)備的分布情況,高純氣體的管網(wǎng)不宜過大或者過長;宜采用不封閉的環(huán)形管路,在系統(tǒng)末端連續(xù)不斷排放少量的氣體,以便在管網(wǎng)中總有高純氣體流通,不會發(fā)生“死空間”引起高純氣體的污染。
4.管路中應(yīng)減少不流動氣體的“死空間”,不應(yīng)設(shè)有盲管,在特種氣體的儲氣瓶與用氣設(shè)備之間應(yīng)設(shè)吹掃控制裝置、多閥門控制裝置、用以控制各個(gè)閥門的開關(guān)順序、系統(tǒng)吹除,以確保供氣系統(tǒng)的安全、可靠運(yùn)行和防止“死區(qū)”形成而滯留污染物,降低氣體純度。
5.對高純氣體純度要求不同的用氣設(shè)備,宜采用分等級高純氣體輸送系統(tǒng);也可采用同等級輸送系統(tǒng),但是在純度要求高的用氣設(shè)備鄰近處設(shè)末端氣體提純裝置。
6.為了檢測高純氣體的純度和雜質(zhì)含量,輸送系統(tǒng)除了設(shè)置必要的連續(xù)檢測儀器,如衡量水含量或者氧雜質(zhì)含量等分析儀外,還應(yīng)設(shè)置定期取樣用的檢測采樣口,以便按規(guī)定時(shí)間進(jìn)行采樣,分析高純氣體中各種雜質(zhì)的含量。
7.在亞微米級的集成電路生產(chǎn)中,要求供應(yīng)10-9級的高純氣體,為了確保末端用氣工藝設(shè)備處的氣體純度,使氣體中的雜質(zhì)含量(包括塵粒)控制在規(guī)定的數(shù)值內(nèi),一般在設(shè)備前設(shè)置末端純化裝置,或末端氣體過濾器。
