真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。Parylene HT（SCS）該材料具有更低的介電常數(shù)(即透波性能好)、好的穩(wěn)固性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可達(dá)450攝氏度,長(zhǎng)期耐溫可達(dá)350攝氏度,并具有強(qiáng)的抗紫外線能力.更適合作為高頻微波器件的防護(hù)材料。

       Parylene真空鍍膜以其良好的耐腐蝕、耐，、 低阻滯性、低摩擦系數(shù)及生物相容性，在國(guó)際臨床運(yùn)用的生物的表面涂層上，將逐步取代TiNi（鎳鈦）合金涂層而被列為*材料。如骨釘、探針、針頭、臨時(shí)手術(shù)器械、導(dǎo)尿管、制動(dòng)器及耳蝸植入器，心臟起搏器、腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術(shù)刀等微型電子。

       派瑞林涂層是化學(xué)氣相沉積法，是反應(yīng)物質(zhì)在氣態(tài)條件下發(fā)生空間氣相化學(xué)反應(yīng)，在固態(tài)基體表面直接生成固態(tài)物質(zhì)，進(jìn)而在基材表面形成涂層的一種工藝技術(shù)。派瑞林薄膜制備過(guò)程分為三步：?jiǎn)误w的汽化、裂解、在基材表面進(jìn)行附著沉積。

       紫外線照射的薄膜與未曝光的薄膜之間的故障時(shí)間之間的巨大差異為聚對(duì)二C和N的正確使用條件提供了重要的認(rèn)識(shí)。聚對(duì)二D，C，N，AF4的化學(xué)結(jié)構(gòu)定義了由于紫外線引起的降解接觸。聚對(duì)二N是未取代的烴分子，聚對(duì)二C每個(gè)重復(fù)單元具有一個(gè)加氯基，聚對(duì)二D每個(gè)重復(fù)單元具有兩個(gè)加氯基。相比之下，聚對(duì)二AF4用氟原子取代了化學(xué)品苯環(huán)上的氫原子，從而大大增強(qiáng)了其紫外線穩(wěn)定性。

       納米鍍膜技術(shù)是將納米級(jí)的二氧化硅均勻的涂抹在手機(jī)屏面，讓二氧化硅慢慢的滲透并填充屏面凹陷坑洼處，在自然溫度下靜置5-10分鐘等待固化，或者使用專業(yè)的納米鍍膜機(jī)快速固化，形成有9H硬度的保護(hù)涂層。

       同時(shí)，早期手機(jī)貼膜的材質(zhì)都是塑料成分，透光率不好，屏面整體可視性差，太陽(yáng)光下的反光現(xiàn)象傷害視力，越看不清越努力的看更是損傷眼睛的健康；而納米鍍膜的微薄涂層透光率高，呈現(xiàn)效果清晰,還能有效還原屏幕原有的畫(huà)質(zhì)色彩，極大提升手機(jī)的品質(zhì)使用感。

       從材質(zhì)的健康角度來(lái)說(shuō)，貼膜的塑料成分中含有苯，苯的有毒性大家共知，長(zhǎng)期接觸人體飽受；而納米的屬性是無(wú)毒、無(wú)味的食品等級(jí)，是兒童都可以觸碰的無(wú)毒產(chǎn)品，衡量利弊當(dāng)然還是納米鍍膜好。

       原子層沉積（ALD）是一種沉積原子級(jí)薄膜的技術(shù)，它是以一種連續(xù)脈沖的方式在樣品表面和反應(yīng)前驅(qū)體材料之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。與傳統(tǒng)的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)相比，沉積速率相對(duì)較慢，但是它可在高深寬比的溝槽和通孔結(jié)構(gòu)上沉積均勻薄膜。另外，在原子層沉積過(guò)程中，樣品表面上沒(méi)有物理和電學(xué)損傷，而在PECVD過(guò)程中由于離子轟擊這種損傷卻不可避免。此外，通過(guò)使用不同的反應(yīng)材料可沉積各種薄膜（氧化物，氟化物，氮化物，金屬等）。