uv光解凈化裝置

濰坊至誠環(huán)保擁有1流的管理人才和銷售隊(duì)伍，并培養(yǎng)一批工程師和一支訓(xùn)練有素、 經(jīng)驗(yàn)豐富的生產(chǎn)施工安裝隊(duì)伍，全心全意為客戶提供廢氣處理、粉塵處理、廢水治理工程服務(wù)。包括顧問咨詢、工程設(shè)計(jì)、項(xiàng)目設(shè)計(jì)、項(xiàng)目管理（研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、安裝、調(diào)試、運(yùn)行維護(hù)、驗(yàn)收等一條龍服務(wù)）。除塵器除掉廢氣中的粉塵，防止粉塵對后邊UV光解器凈化作用的影響。

廢氣處理產(chǎn)品包括：UV光解凈器、等離子凈化器。粉塵處理產(chǎn)品包括：脈沖布袋除塵器、旋風(fēng)除塵器、水噴淋除塵器、脫硫脫硝除塵器。

uv光解凈化裝置光強(qiáng)

有材料報(bào)道，uv光解凈化裝置在低光強(qiáng)下速率與光強(qiáng)成線性關(guān)系，中等強(qiáng)度的光照下，速率與光強(qiáng)的平方根有線性關(guān)系。而光譜規(guī)模散布在250～410nm 的中壓弓燈， 其降解反應(yīng)速率常數(shù)是其它光源的1.4 倍以上[10]。溶液的pH 值。溶液的pH 值能改動(dòng)顆粒外表的電荷，然后改動(dòng)顆粒在溶液中的渙散狀況。一般來說，uv光解凈化裝置跟著系統(tǒng)pH 值的增大，反響速率進(jìn)步。但這也與被降解的有機(jī)物的結(jié)構(gòu)有關(guān)。在進(jìn)步光催化活性方面， 由金屬或金屬氧化物與半導(dǎo)體組成的光催化劑研討很快。對金屬在光催化系統(tǒng)中的效果有兩種解說， 一是雙功用機(jī)理，既影響半導(dǎo)體顆粒外表的能級結(jié)構(gòu)（降低了帶隙能），又影響催化氧化和復(fù)原反響的進(jìn)程；二是單功用機(jī)理，即只影響氧化和復(fù)原反響的進(jìn)程。以先進(jìn)的技術(shù)工藝、高性價(jià)比、完善的售后服務(wù)體系取得了良好的經(jīng)濟(jì)和社會(huì)效益。

uv光解凈化裝置

當(dāng)負(fù)載P25 UV光催化設(shè)備后，進(jìn)行光催化反響試驗(yàn)，uv光解凈化裝置試驗(yàn)結(jié)果表明運(yùn)用真空紫外線（UV）后，在同等條件下可以進(jìn)步光催化處理功率7%左右。在進(jìn)行光催化反響過程中，因?yàn)閁V 光源自身就能去除少數(shù)的家苯。而且UV 的能量更高所以其催化效果更好，一起因?yàn)楣饨獍l(fā)生的羥自由基與光催化的協(xié)同效果，也進(jìn)步了光催化法去除家苯的功率。uv光解凈化裝置試驗(yàn)光源選用一盞10W 真空紫外線（UV）燈，反響器進(jìn)口家苯濃度為200mg/m3，流量為0.6L/min，停留時(shí)間為25s，負(fù)載P25 UV光催化設(shè)備的玻璃珠為光催化反響器的填料。每距離15min從反響器出口采樣，分別在相對濕度15% 、30%、45% 、60%、70%下測定家苯的去除率。引風(fēng)機(jī)設(shè)置在體系結(jié)尾，既為體系供給抽吸力，又使除塵器處于負(fù)壓防止濾袋損壞時(shí)廢氣走漏。

uv光解凈化裝置試驗(yàn)結(jié)果表明，相對濕度在15%到45%時(shí)，光催化對除家苯的去除功率跟著相對濕度的添加而進(jìn)步；當(dāng)相對濕度大于60%今后光催化的功率跟著相對濕度的添加而下降。相對濕度在45%到60%間光催化去除家苯的功率到達(dá)醉高。這首要原因是，uv光解凈化裝置在相對濕度較低時(shí)，反響系統(tǒng)中的水分子較少，光催化反響發(fā)生的·OH較少，而跟著相對濕度的添加，光催化反響系統(tǒng)中的·OH 逐步添加，然后進(jìn)步了光催化對家苯的去除功率；UV＋O2→O- O＊(活性氧)O O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化效果，uv光解凈化裝置對有機(jī)氣體及其它刺激性異味有馬到成功的鏟除效果。但跟著相對濕度的持續(xù)添加，系統(tǒng)中的水分子越來越多，當(dāng)相對濕度大于60%今后，光催化反響系統(tǒng)中的水分子和反響物家苯在催化劑外表的競賽吸附越來越顯著，然后使家苯的去除率開端下降。

uv光解凈化裝置

進(jìn)口濃度對家苯去除率的影響

uv光解凈化裝置試驗(yàn)光源選用一盞10W的真空紫外線（UV）燈，流量為0.6L/min，逗留時(shí)間為25s，相對濕度45%，負(fù)載P25 光催化設(shè)備的玻璃珠為UV光催化設(shè)備的填料。每距離15min從反響器出口采樣，分別在uv光解凈化裝置反響器進(jìn)口濃度為60mg/m3、100mg/m3、200mg/m3、400mg/m3。800mg/m3條件下測定家苯的去除率。當(dāng)家苯的進(jìn)口濃度由60mg/m3升高至800mg/m3時(shí)，家苯的去除率由69%下降至14%。依據(jù)Lagmium-Hinsherwood動(dòng)力學(xué)方程，在氣固相光催化反響過程中，當(dāng)uv光解凈化裝置反響物濃度很低時(shí)，uv光解凈化裝置光催化降解率與濃度呈正比，光催化降解表現(xiàn)為一級動(dòng)力學(xué)方程；濰坊至誠環(huán)保技術(shù)工程有限公司是一家集科研、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、維修、和銷售集成為一體的高新技術(shù)企業(yè)，憑借在環(huán)保領(lǐng)域的專業(yè)水平和成熟的生產(chǎn)技術(shù)，迅速在本領(lǐng)域崛起。

跟著反響物的濃度添加，去除率略有所添加；當(dāng)負(fù)載P25UV光催化設(shè)備后，進(jìn)行光催化反響試驗(yàn)，uv光解凈化裝置試驗(yàn)結(jié)果表明運(yùn)用真空紫外線（UV）后，在同等條件下可以進(jìn)步光催化處理功率7%左右。而本試驗(yàn)所選用廢氣中為中低濃度的家苯，當(dāng)家苯的濃度在這一個(gè)范圍內(nèi)，uv光解凈化裝置反響速率只與活性方位的表面反響速率常數(shù)有關(guān)，反響速率為一常數(shù)，光催化降解表現(xiàn)為零級反響動(dòng)力學(xué)。若反響物濃度過高，使得在反響時(shí)間內(nèi)很多的家苯分子未能與活性空位觸摸，而直接流出反響器，導(dǎo)致了反響去除率的下降，一起因?yàn)榧冶綕舛冗^高，反響不行完全，催化劑外表吸附了部分反響中心產(chǎn)品，占有了光催化反響的活性位也會(huì)導(dǎo)致光催化反響的功率下降。

uv光解凈化裝置