CMP技術(shù)的概念是1965年由Manto提出。該技術(shù)是用于獲取高質(zhì)量的玻璃表面，如望遠鏡等。1988年IBM開始將CMP技術(shù)運用于4MDRAM 的制造中，而自從1991年IBM將CMP成功應(yīng)用到64MDRAM 的生產(chǎn)中以后，CMP技術(shù)在世界各地迅速發(fā)展起來。區(qū)別于傳統(tǒng)的純機械或純化學的拋光方法，CMP通過化學的和機械的綜合作用，從而避免了由單純機械拋光造成的表面損傷和由單純化學拋光易造成的拋光速度慢、表面平整度和拋光一致性差等缺點。它利用了磨損中的“軟磨硬”原理，即用較軟的材料來進行拋光以實現(xiàn)高質(zhì)量的表面拋光。

拋光就是對工件表面進行加工，使其高度光潔。一般用附有細磨粉的軟質(zhì)輪子高速旋轉(zhuǎn)來擦拭工作。此外還有液體拋光、電解拋光等方法。簡單說拋光劑就是使物件表面光亮的試劑。拋光后的產(chǎn)品亮度均勻一致，且本藥劑的處理溫度為中溫，無需加過高的溫度。拋光劑（俗稱：光亮劑）：淡黃色或黃色透明液體制劑。根據(jù)市場需求不斷演化出針對不同材質(zhì)的制劑（大至有不銹鋼拋光劑、鎂合金拋光劑、銅拋光劑、鋁合金拋光劑、玻璃拋光粉、鉆研拋光粉等）。 [1] 用 途：適合各種不銹鋼或金屬制品拋光。性 狀：液體產(chǎn)品。工藝條件：拋光機配套使用腐 蝕 性：對不銹鋼無腐蝕，保持金屬表面光亮度，不變色，刺。毒 性：無毒，不污染環(huán)境。配 比：1:5~10(以能潤濕工件為準)溫 度：常溫使用

鋁合金產(chǎn)品傳統(tǒng)的三酸拋光的化學工藝配方為：磷酸80%，硫酸10%，10%。目前磷酸的價格為5400元/噸，硫酸700元/噸，2300元/噸（以上價格僅作為參考）。那么我們傳統(tǒng)的配方成本為：磷酸800ml*1.70*5.40=7.344元，硫酸100ml*1.84*0.7=0.13元，100ml*1.40*2.30=0.32元，那么一升拋光液合計的成本為7.8元。目前我公司研制成功的OY系列鋁處理化學拋光工藝，磷酸為500ml/l,硫酸500ml/l,光亮劑20ml/l, 成本核算為：500ml*1.70*5.40=4.59元；硫酸500*1.84*0.7=0.644;光亮劑計0.65元，合計5.85元。因此，我公司OY系列鋁處理工藝，成本足足下降了20%。而且OY系列產(chǎn)品在處理鋁的時候,無任何黃煙，大大的改善了生產(chǎn)環(huán)境；處理成品率可以在到98%以上，幾乎無因為拋光而造成的報廢品；光亮度好，與三酸處理無異；維護管理容易，溶液性能穩(wěn)定。因此，我公司極力推薦使用本產(chǎn)品。