佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車輛燈具注塑 鍍膜為主的專業(yè)生產(chǎn)廠家，公司秉承“以質(zhì)取勝，求真務(wù)實(shí)，顧客至上”理念，歡迎廣大客戶光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響： 

基體溫度：鍍膜時(shí)基體溫度直接影響膜層的結(jié)構(gòu)、致密性和附著力，溫度可用T/Tm值來(lái)確定，如；鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響：鍍膜時(shí)間：膜層厚度隨鍍膜時(shí)間的增加而增加,但不是線形增加,當(dāng)厚度達(dá)到一定的時(shí)候,增加速度會(huì)變慢最后基本停止,而且鍍膜時(shí)間越長(zhǎng)膜層應(yīng)力越大。靶材為鈦，其熔點(diǎn)為1670℃，基體溫度應(yīng)該選擇TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒組織?？紤]到沉積粒子受負(fù)偏壓作用加速轟擊工件還會(huì)引起溫升，基體可選在250-300℃

靶基距：靶基距是影響成膜速率的重要因素之一，隨著靶基距增加，被濺射材料射向基片時(shí)與氣體分子碰撞的次數(shù)增多，同時(shí)等離子體密度也減弱，動(dòng)能減少，沉積速率降低，但膜層外觀較好。靶基距太小，沉積太快，工件溫升大，膜層外觀差

輝光清洗：對(duì)工件施加負(fù)偏壓，產(chǎn)生輝光放電，利用ya離子轟擊工件表面，這種輝光放電清洗作用比較柔和，一般采取由弱到強(qiáng)的轟擊清洗順序，是怕工件太臟時(shí)一開始就強(qiáng)轟擊，可能產(chǎn)生強(qiáng)烈的打火而損傷工件。

光學(xué)薄膜有改變電磁波的路徑的特性■光學(xué)薄膜很薄時(shí)就會(huì)產(chǎn)生干涉，當(dāng)光學(xué)薄膜很厚時(shí)就產(chǎn)生不了干涉當(dāng)我們把很薄的膜組合起來(lái)就有很多新的特性產(chǎn)生。

參數(shù)：

E值：輻射率。輻射率是指透過(guò)玻璃的遠(yuǎn)紅外線與入射遠(yuǎn)紅外線之比。輻射率越小，通過(guò)膜層反射回去的熱量越多，隔熱效果越好。（E=0.0129R-6.75R2)