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發(fā)布時(shí)間:2021-01-09 20:33  

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電鍍過(guò)程是鍍液中的金屬離子在外電場(chǎng)的作用下,經(jīng)電極反應(yīng)還原成金屬原子并在陰極上進(jìn)行金屬沉積的過(guò)程。

  電鍍?cè)砗?jiǎn)單而言,就是在含有欲鍍金屬的鹽類溶液中,以被鍍基體金屬為陰極,通過(guò)電解作用,使鍍液中欲鍍金屬的陽(yáng)離子在基體金屬表面沉積出來(lái),形成鍍層。

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電鍍生產(chǎn)過(guò)程中排出大量的有害氣體和生產(chǎn)廢水,對(duì)人類生存環(huán)境構(gòu)成潛在的危害,并造成極大的資源浪費(fèi),也極大地限制了電鍍工業(yè)的發(fā)展。即使對(duì)這些有害氣體和生產(chǎn)廢水進(jìn)行處理,仍然會(huì)殘留一些難以處理的大量泥渣。此外,電鍍是一種勞動(dòng)密集型、低附加值工業(yè)。由于經(jīng)驗(yàn)評(píng)定法評(píng)定受人為因素影響,有時(shí)會(huì)對(duì)評(píng)定結(jié)果產(chǎn)生爭(zhēng)議,所以在必要時(shí)可采取封樣對(duì)照,作為評(píng)定時(shí)的參考。一些工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家已逐步將一些規(guī)模大的電鍍加工向發(fā)展中國(guó)家或不發(fā)達(dá)國(guó)家轉(zhuǎn)移。為了減輕電鍍對(duì)環(huán)境產(chǎn)生的影響,同時(shí)獲得的電鍍層,電鍍技術(shù)的研究者們一 直在不斷努力開發(fā)新的切實(shí)可行的電鍍工藝技術(shù)。當(dāng)前,電鍍正在由單金屬電鍍向合金電鍍、高能耗向低能耗方面轉(zhuǎn)移


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表面光亮度的測(cè)定

樣板對(duì)照法實(shí)際上是對(duì)目測(cè)法的改進(jìn),屬于目測(cè)法中的比較測(cè)量法。由于樣板對(duì)照法 是以規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)光亮度樣板進(jìn)行比較,有相對(duì)參考依據(jù),所以在一定程度上排除了人為爭(zhēng)議,提高了評(píng)定正確性。

制作標(biāo)準(zhǔn)光亮度樣板

(1)一級(jí)光亮度樣板:經(jīng)加工標(biāo)定粗糙度為0.04μm<Ra<0.08μm的銅制(或鐵制)試 片,經(jīng)電鍍光亮鎳后套鉻拋光而成。

(2)二級(jí)光亮度樣板:經(jīng)加工標(biāo)定粗糙度為 0.08μm<Ra<0.16μm 的銅制(或鐵制)試片,經(jīng)電鍍光亮鎳后套路拋光而成。

(3)三級(jí)光亮度樣板:經(jīng)加工標(biāo)定粗糙度為0.16 μm<Ra<0.32μm  的銅制(或鐵制)試 片,經(jīng)電鍍光亮鎳后套鉻拋光而成。

(4)四級(jí)光亮度樣板:經(jīng)加工標(biāo)定粗糙度為0.32 μm<Ra<0.64μm  的銅制(或鐵制)試片,經(jīng)電鍍光亮鎳后套鉻拋光而成。