微弧氧化膜具有特殊的多孔質結構，使得它在金屬材料功能化方面有著巨大的應用潛力，如在微弧氧化膜的細孔中填充潤滑性物質，可以作為性能優(yōu)良的減摩抗磨材料。鎂合金基體表面變形能力提高，基體磨損量增加，質量磨損速率則隨載荷增加的趨勢變得緩慢。影響微弧氧化膜生長和性能的因素很多，有待于系統(tǒng)而深入地研究，以弄清楚各因素對膜性能的影響規(guī)律，使得不同性能要求下的微弧氧化工藝更具有可重現(xiàn)性?！∥⒒⊙趸娫?、微弧氧化技術、微弧氧化生產(chǎn)線

     微弧氧化的起源

       微弧氧化(MAO)是一種在輕金屬表面原位生長陶瓷氧化膜的新技術。那些用材料制成、在高精尖科技儀器上發(fā)揮關鍵作用的精密零部件，其使用壽命往往直接影響設備的使用壽命。美國五十年代在某些兵工廠開始研究陽極火花沉積,前蘇聯(lián)從七十年代中期開始獨立研究微弧氧化且具較高水平,八十年代中、后期以來微弧氧化研究已成為國際研究熱點并開始應用,九十年代初國內開始起步。微弧氧化在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域有廣泛應用前景。（壓鑄件氧化，鋁鎂合金硬質氧化，硬質氧化）微弧氧化技術原理、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

      微弧氧化技術是一種低碳環(huán)保的興新表面工藝處理技術。微弧氧化技術、微弧氧化技術優(yōu)勢、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線。適用于對鋁、鎂、鈦等輕金屬以及鋁合金的表面處理。它能合理地在PCB原材料表面上原體生長發(fā)育一層勻稱的陶瓷膜。因為其加工工藝特性顯著，表面處理的性能優(yōu)點凸出，自該技術被創(chuàng)造發(fā)明至今，深受大家的親睞。微弧氧化解決是一種在稀有金屬表面原點生長發(fā)育化合物瓷器的新技術應用。選用微弧氧化技術對鎂以及合金制品開展表面瓷器化解決，具備加工工藝全過程簡易，占地小，處理工藝能力強，生產(chǎn)制造速度快，適用大批量工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)勢。

陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段?，F(xiàn)階段，微弧氧化技術處理的材料為鎂、鋁、鈦及其合金，另外鉭、鈮、鋯、鈹?shù)炔牧媳砻嬉部梢灾苯舆M行微弧氧化。陽極氧化發(fā)生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結合，因此與基體結合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結合力，膜層內部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源