2.2.7熱陰頻濺射（三極型濺射）hotcathodehighfrequencysputtering：借助于熱陰極和陽(yáng)極獲得非自持氣體放電，氣體放電產(chǎn)生的離子，在靶表面負(fù)電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。

  2.2.8離子束濺射ionbeamsputtering：利用特殊的離子源獲得的離子束使靶的濺射。

  2.2.9輝光放電清洗glowdischargecleaning：利用輝光放電原理，使基片以及膜層表面經(jīng)受氣體放電轟擊的清洗過(guò)程。

  2.3物理氣相沉積；PVDphysicalvapordeition：在真空狀態(tài)下，鍍膜材料經(jīng)蒸發(fā)或?yàn)R射等物理方法氣化，沉積到基片上的一種制取膜層的方法。

真空鍍膜廠家真空室形帶來(lái)的影響

為盡量減小真空鍍膜機(jī)真空室形變帶來(lái)的影響，我們將導(dǎo)軌、絲桿等傳動(dòng)件固定于一個(gè)剛性的中間層上，其與真空室底壁之間采用點(diǎn)、

線、面活性支撐，以吸收和隔離形變，并設(shè)置形變補(bǔ)償調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，在系統(tǒng)抽真，參照有限元計(jì)算提供的理論數(shù)據(jù)預(yù)設(shè)適當(dāng)?shù)难a(bǔ)償量，以使其在真空狀態(tài)下達(dá)到平衡。

為了驗(yàn)證有限元計(jì)算的結(jié)果，對(duì)真空室的形變和補(bǔ)償進(jìn)行了測(cè)試。一步，將四只千分表定位在工作臺(tái)安裝基點(diǎn)的真空壁外側(cè)，

當(dāng)真空室由大氣抽到真空時(shí)，記錄各千分表的變化量，經(jīng)一體化處理后為用激光自準(zhǔn)直儀調(diào)整i形變補(bǔ)償。

真空鍍膜的特點(diǎn)是什么？

 1.真空鍍膜可以在固態(tài)基體上鍍制金屬，合金，半導(dǎo)體薄膜及各種化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范圍內(nèi)調(diào)控。

 2.真空鍍膜可以鍍制高純度，高致密度，與基體結(jié)合力強(qiáng)的各種功能薄膜拜。特別是各種金屬五金產(chǎn)品，大規(guī)模集成電路，小分子有機(jī)顯示器件等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制模技術(shù)無(wú)法滿足要求。

 3.真空鍍膜對(duì)環(huán)境無(wú)污染，特別是PVD方法。

 4.真空鍍膜是需要有真空設(shè)備來(lái)完成的鍍膜，所以成本比較高，但真空鍍膜產(chǎn)品耐磨性好，耐腐蝕，環(huán)保，產(chǎn)品可過(guò)ROHS測(cè)試。

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。

真空PVD鍍膜涂層表面摩擦系數(shù)小，經(jīng)過(guò)表面拋光的金屬材料的表面對(duì)鋼摩擦系數(shù)一般在0.9左右，真空PVD鍍膜涂層對(duì)鋼材的摩擦系數(shù)在0.01～0.6之間，常用于壓鑄模具的真空PVD鍍膜涂層材料（AlCrN，AlTiN）摩擦系數(shù)一般在0.4-0.6，低的摩擦系數(shù)使經(jīng)過(guò)真空PVD鍍膜處理的模具在加工過(guò)程中與被加工零件的表面摩擦降低，零件表面品質(zhì)優(yōu)于沒(méi)有涂層的模具所生產(chǎn)的零件。