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發(fā)布時間:2021-07-05 18:17  
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研磨機(jī)變速控制方法的三個階段
研磨機(jī)變速控制方法的三個階段 研磨機(jī)是用于超精密研磨加工的設(shè)備,在提高我國的研磨技術(shù)具有重要的發(fā)展意義。像東研研磨機(jī)主要分兩大類,一類是單面研磨拋光機(jī),另一類是雙面研磨拋光機(jī),這兩者的差別在于單面和雙面的工作性能。研磨機(jī)的速度控制是加工過程中不可忽視的操作細(xì)節(jié),主要分為三個階段,下面我們就對這三個階段的變速控制進(jìn)行簡單的了解。 研磨加工的三個階段分別是開始階段、正式階段以及結(jié)束階段。開始階段的變速控制特點是磨具升速旋轉(zhuǎn),正式階段的變速控制特點是恒速旋轉(zhuǎn),結(jié)束階段便是磨具降速旋轉(zhuǎn)。在研磨加工開始階段,人為控制磨具轉(zhuǎn)速的加速度從零由慢到快地增大,當(dāng)磨具轉(zhuǎn)速升到正式研磨速度的一半時,加速度的變化出現(xiàn)一個拐點,控制磨具轉(zhuǎn)速的加速度由值由快到慢地減小,直到磨具轉(zhuǎn)速達(dá)到正式的研磨速度,磨具轉(zhuǎn)速的加速度降為零。

平面研磨機(jī)需要進(jìn)行修盤的原因分析
平面研磨機(jī)需要進(jìn)行修盤的原因分析 在平面精密研磨過程中,研磨盤的精度是決定研磨工件品質(zhì)的重要因素。我們都知道平面研磨機(jī)的磨盤在經(jīng)過一段時間的研磨過后,由于磨盤磨損強(qiáng)度不均勻會導(dǎo)致研磨盤不平整,在后面研磨的工件加工質(zhì)量會變得參數(shù)不一致,而且磨盤表面磨粒與粘結(jié)劑形成的微孔會被磨屑淤塞,造成磨削效率下降。研磨盤的平面度是影響高精密研磨加工品質(zhì)的關(guān)鍵因素。 不平整的研磨盤會造成研磨壓力的不均勻,導(dǎo)致擺放在放料架具結(jié)輪片上不同位置的工件加工厚度不一致,嚴(yán)重時還會影響工件的平面度與其他質(zhì)量參數(shù)。因此,平面研磨機(jī)就必須采用修盤器來修整研磨盤。采用材料相對來說較硬的修盤器來對磨盤進(jìn)行修整,使其露出新的,平整的研磨表面。研磨盤的修整采用修盤器與研磨盤互研的方法,通過調(diào)整中心齒輪、外齒輪圈以及上下盤的轉(zhuǎn)速,從而得到修整研磨盤磨石的不同效果。平面研磨機(jī)修盤時的工藝參數(shù)對研磨盤的修整效果需要長時間的經(jīng)驗積累,同時還與工藝條件操作都經(jīng)驗技術(shù)相關(guān)。一般來說在選購平面研磨機(jī)時選購自帶修盤的,這樣不僅能保證加工產(chǎn)品的質(zhì)量,同時也為日后機(jī)器修盤方便快捷。

時間對平面拋光研磨機(jī)的拋光液PH的影響分析
時間對平面拋光研磨機(jī)的拋光液PH的影響分析 拋光液PH值是拋光元件表面粗糙度的重要影響因素,他是拋光元件化學(xué)拋光的重要組成部分。事實證明,當(dāng)拋光壓力、溫度等外界因素相匹配時,平面拋光研磨機(jī)拋光時的PH值應(yīng)控制在11.25左右,這時候化學(xué)拋光和機(jī)械拋光的作用相平衡,拋光效果! 拋光液中PH值參數(shù)是衡量一種液體性能是否穩(wěn)定的重要因素。很多拋光液使用者并沒有清楚的意識到這一點,他們往往對拋光液內(nèi)的粒度分布,粒徑大小,均勻性,配比等感興趣,而忽略了一個重要的因素-PH值對整個液體狀的的影響。 在化學(xué)性質(zhì)的液體中,PH值的大小影響著液體性能的穩(wěn)定。拋光液一般在微酸或者微堿的時候,對平面拋光研磨機(jī)工件的拋光效果,所能達(dá)到的表面粗超度。當(dāng)PH值偏堿性時,粗超度變大。所以在配置這種液體的時候,我們不能忽略這一點,一定要反復(fù)試驗,取得一個穩(wěn)定值。 拋光液的PH值是變化的。這是因為拋光液會隨著時間的變化而變化。由于某些工件在拋光時產(chǎn)生水解作用,在實際拋光過程中拋光液的pH值會隨拋光時間不斷變化。在每次添加拋光液后,pH值的變化為劇烈。因此一開始先每隔15s測量一次,之后每隔1min測量一次,從而可得出不同初始pH值的拋光液在拋光過程中pH值的變化規(guī)律。在對不含有堿金屬氧化物,不會與水產(chǎn)生水解反應(yīng),在平面拋光研磨機(jī)的拋光過程中拋光液的pH值基本保持不變,所以其拋光方法也不同。
