經(jīng)過不斷改良和工藝設(shè)備發(fā)展，亦可以用于航空、機(jī)械、化學(xué)工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導(dǎo)體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術(shù)。

蝕刻：一種將材料使用bai化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而du移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

PCB（印制線路板）生產(chǎn)過程中，手動(dòng)曝光是較為簡單的生產(chǎn)工藝，屬于干法制程。如果沒有采取一定措施，菲林底片很容易和已經(jīng)對準(zhǔn)的打好孔的覆銅板坯料的孔位發(fā)生偏移。其結(jié)果是，輕者影響線路板的可靠性和美觀，嚴(yán)重時(shí)造成蝕刻出來的PCB破盤，甚至斷線。

發(fā)生偏移的主要原因是手動(dòng)曝光機(jī)抽真空時(shí)橡皮膜發(fā)生蠕動(dòng)，帶動(dòng)菲林底片移動(dòng)，而覆銅板坯料又未發(fā)生移動(dòng)，于是菲林底片和覆銅板坯料之間產(chǎn)生了相對運(yùn)動(dòng)，偏移就產(chǎn)生了。這種現(xiàn)象對于用久了的曝光機(jī)，因橡皮膜受污染或老化發(fā)粘，更為嚴(yán)重。

不能用金屬盆)顯像:膜面朝上放入感光板(雙面板須懸空)每隔數(shù)秒搖晃容器或感光板，直到銅箔清晰且不再有綠色霧狀冒起時(shí)即顯像完成。此時(shí)需再靜待幾秒鐘以確認(rèn)顯像完成。標(biāo)準(zhǔn)操作顯像時(shí)間約1-2分鐘，顯影可在一般光線下進(jìn)行，關(guān)鍵的就是要隨時(shí)注意觀察顯影的進(jìn)度，不可照搬顯影時(shí)間。3.水洗:4.干燥及檢查:為了確保膜面無任何損傷，能做到此步驟。即利用吹風(fēng)機(jī)吹干，短路處請用小刀刮凈，斷線處用油性筆等修補(bǔ)。