氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用

（1）電子行業(yè)，微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。

（2）真空行業(yè)，儀器、儀表行業(yè)，管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計(jì)。

（3）核工業(yè)，鈾分離裝置、存儲裝置、核發(fā)電裝置。

（4）制冷行業(yè)，冰箱、空調(diào)、汽車用空調(diào)、蒸發(fā)器、冷凝器、壓縮機(jī)、低溫儲槽。

（5）不銹鋼保溫器皿，真空保溫杯、瓶、鍋、飯盒等。

（6）核工業(yè)、航空工業(yè)、航天工業(yè)、船舶工業(yè)、軍事電子六大類。

氦質(zhì)譜檢漏儀的特點(diǎn)

氦質(zhì)譜檢漏儀實(shí)際上可以說是一個(gè)檢氦儀，通過檢測氦氣的含量來確定是否有泄漏。而對氦的檢測則使用的是質(zhì)譜儀，是只檢測氦的質(zhì)譜儀，這種質(zhì)譜儀將其它質(zhì)量數(shù)的氣體都屏蔽掉了。氦質(zhì)譜檢漏儀要想正常工作，需要真空環(huán)境。至少要在10-3mbar以下，空氣的流動(dòng)才體現(xiàn)為分子流，氦質(zhì)譜檢漏儀才能穩(wěn)定正常工作。

氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)

氦質(zhì)譜檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，氦質(zhì)譜檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，對于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長。筆者根據(jù)實(shí)測經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)氦質(zhì)譜檢漏儀還沒有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。

清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長些。筆者測算，在測試到數(shù)量級為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測試到數(shù)量級為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；在測試到數(shù)量級為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。