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天津PVD離子鍍膜設備免費咨詢「多圖」

發(fā)布時間:2021-03-06 06:46  

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至成真空機械/高真空卷繞式鍍膜設備


該鍍膜設備是用于聚脂薄膜或經(jīng)過處理的紙張表面真空噴鍍金屬鋁膜的專用設備,在10的負2次方帕的真空氣氛中,鋁被連續(xù)加熱蒸發(fā),在被冷卻的基材表面凝固,形成致密的金屬鋁膜,從而制成金屬化材料,用以生產(chǎn)各種金屬化包裝、裝璜及保溫絕熱材料和電氣材料。主要解決的技術問題有:

①蒸鍍紙張的真空抽氣能力;

②高速鍍膜時蒸發(fā)鋁的效率問題;

③高速卷繞時基材張力控制;

④真空抽氣過程的微機控制。其主要技術參數(shù):鍍膜材料為:紙(35~80克/平方公尺)或薄膜12~50μ;卷繞速度180公尺/分;抽氣時間8分鐘;工作真空6.5×10的負2次方Pa;控制方式為部分微機控制。該機是國內(nèi)替代進口同類設備的良好機型



真空鍍膜機鍍陶瓷手機蓋板鍍膜工藝介紹


手機已經(jīng)成為人民生活中不可缺少的一部分,人人都有配置一部手機,手機給我們生活帶來了極大的便利。然而隨著手機5G技術的快速發(fā)展,陶瓷將憑借它無信號被屏蔽以及良好的機械性能成為5G時代比較受關注的材料,未來陶瓷的市場前景將非常廣闊。而陶瓷產(chǎn)品的表面處理是需要用到真空鍍膜機PVD鍍膜工藝,主要是蒸鍍和濺射鍍?yōu)橹?,那么下面至成真空小編為大家詳細介紹一下這兩種技術。真空蒸發(fā)鍍膜機鍍膜:真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下,加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之氣化并沉淀在基片表面形成固體薄膜。

真空蒸發(fā)鍍膜機鍍膜的基本工藝流程:鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發(fā)→取件→膜層表面處理→成品

在鍍膜的過程中要進行一些清洗的工作:1、鍍件清洗。2、蒸發(fā)源制與清洗。3、真空室與夾具清洗。4、安裝蒸發(fā)源和鍍件。



真空鍍膜機鍍膜層斑產(chǎn)生的原因及改善對策


真空鍍膜機在鍍膜層的時候,鍍出的膜層經(jīng)常會出現(xiàn)各種各樣的異樣,很多商家因找不到出現(xiàn)的這種情況的原因,從而影響鍍膜質(zhì)量和進度,束手無策。其中常見的就是出現(xiàn)斑這種情況,下面至成小編為大家詳細介紹一下真空鍍膜機鍍膜層時,出現(xiàn)斑是什么原因?qū)е碌?,后期該如何改善?

斑(也稱膜色壓克、燒蝕)是指鏡片上的膜色局部變異(一般不規(guī)則)。有膜內(nèi)斑(含膜層斑)和膜外斑二種。有時會出現(xiàn)規(guī)則的局部區(qū)域(如凹鏡片的中心或環(huán)狀區(qū)域等)膜色變異。那斑是因為什么原因產(chǎn)生的呢?斑是膜色局部折射率變異,所謂膜色是薄膜光譜特性的反映,薄膜光譜分光特性的設計和達成是建立在一定折射率基片的基礎上,如果基片局部折射率改變,那么所鍍的膜層在局部的光譜分光特性也有變化。局部點的膜色就會有變異,形成膜內(nèi)斑的。鍍膜中和鍍膜后由于種種原因,使得膜層的局部折射率變異,形成膜層或膜外斑。膜外斑一般較淺,可以用拋光粉或碳酸鈣分擦掉,如果是中間層或底層膜層局部折射率變異的膜層斑,就不能用拋光粉或碳酸鈣粉擦拭去掉了。分辨膜內(nèi)膜層和膜外斑的一個有效手段是用拋光粉或碳酸鈣粉擦拭。膜內(nèi)、膜層、膜外斑的處理對策是不同的。


卷繞式高真空鍍膜機特點是:


整機配置高品質(zhì)PLC微處理器及觸摸式彩色液晶屏幕,所有操作參數(shù)顯示數(shù)字化,設備控制人性化。該機真空系統(tǒng)配備合理,抽氣速度快,。卷繞系統(tǒng)采用的專用變頻電機和精密的變頻器,運行平穩(wěn)、速度高;對原卷材不劃傷、不皺褶、收卷端面整齊。張力控制采用進口數(shù)字張力控制系統(tǒng),張力恒定、準確、反應速度快。真空室、蒸發(fā)爐和隔板都配有冷卻系統(tǒng),確保產(chǎn)品變形小、無暗紋、無黑線。

之前遇到很多客戶,和我說他要買真空鍍膜機,要某某類型的,但是不和我們說他要鍍什么產(chǎn)品。后面繞了一大圈了解到他鍍什么產(chǎn)品后,才明白,他需要的類型鍍膜機不太適合鍍他的產(chǎn)品,所以,當我們剛跟客戶溝通的時候,不管客戶自己要什么類型鍍膜機,我們都要提前先問他鍍什么產(chǎn)品,這樣才能更好的和客戶解釋,什么鍍膜設備適合他目前的產(chǎn)品。