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小型氣相沉積設(shè)備詢問(wèn)報(bào)價(jià)「拉奇納米」

發(fā)布時(shí)間:2021-08-19 09:05  

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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空濺射鍍膜根據(jù)濺射現(xiàn)象以上,濺射是用荷能離子轟擊固態(tài)表面,造成固態(tài)表面原子逸出的狀況。濺射是出射粒子將動(dòng)能傳送給固態(tài)表面,固態(tài)表面原子因消化吸收動(dòng)能而揮發(fā)出去的全過(guò)程。


小型氣相沉積設(shè)備


真空鍍膜設(shè)備涂層刀具的后處理工藝開始受到人們的廣泛關(guān)注。

1、使用真空鍍膜機(jī)涂層刀具,零件已加工表面質(zhì)量較好。

2、真空鍍膜機(jī)涂層材料與被加工材料之間的摩擦系數(shù)較小,所以真空鍍膜機(jī)涂層刀具的切削力小于未涂層刀具。

3、涂層刀具綜合性能良好,涂層硬質(zhì)合金刀片有較好的通用性,一種涂層硬質(zhì)的刀片具有較寬的使用范圍。

4、真空鍍膜機(jī)表面涂層材料具有很高的耐磨性和硬度,且耐高溫。和未涂層的刀具比,涂層刀具允許采用較高的切削速度,提高了切削加工效率,也提高了在相同的切削速度下刀具的壽命。


鍍膜設(shè)備種類復(fù)雜,只需要按照大的工藝分常有的,比如蒸發(fā)、磁控濺射、離子等PVD鍍膜技術(shù),按沒(méi)個(gè)鍍膜加工企業(yè)要求不同又需要配置不同的設(shè)備和程序。

真空鍍膜設(shè)備的多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的缺陷,而且各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)優(yōu)于傳統(tǒng)工藝,廣泛應(yīng)用于五金加工、機(jī)械設(shè)備、化工、模具制造、電子產(chǎn)品、儀器等領(lǐng)域。