主要用途：

六氟化硫（SF6）常態(tài)下是一種無色、無味、無嗅、無l毒的非燃燒性氣體，分子量146.06，密度6.139g/l，約為空氣的5倍。是已知化學(xué)安定性l好的物質(zhì)之一，其惰性與氮?dú)庀嗨啤Ｋ哂袠O1好的熱穩(wěn)定性，純態(tài)下即使在500℃以上也不分解。

六氟化硫具有的電絕緣性和滅弧特性，相同條件下，其絕緣能力為空氣、氮?dú)獾?.5倍以上，滅弧能力為空氣的100倍。高純氧氣鎂在高溫下具有優(yōu)良的耐堿性和電絕緣性，熱膨脹系數(shù)和導(dǎo)熱率高具有良好的光透過性，廣泛用作高溫耐熱材料。六氟化硫的熔點(diǎn)為－50.8℃，可作為－45－0℃溫度范圍內(nèi)的特殊制冷劑，又因其耐熱性好，是一種穩(wěn)定的高溫?zé)彷d體。六氟化硫因上述及其它優(yōu)良特性，近年來被廣泛用于電力、電子、電氣行業(yè)和激光、醫(yī)l療、氣象、制冷、消防、化工、軍事、宇航、有色冶金、物理研究等。

常見高純氣體的用途

環(huán)氧乙烷可用作生產(chǎn)增塑劑、潤滑劑等；氯是重要的甲基化劑，還可作致冷劑、發(fā)泡劑等；氯乙烷可用作煙霧劑、冷凍劑、抗震劑、局部麻l醉劑；二可作噴氣推進(jìn)劑、制冷劑、麻l醉劑；甲硫醇用于合成染料、醫(yī)l藥、農(nóng)l藥；乙炔可直接用于金屬切割焊接、原子吸收；乙烯基乙炔主要作為氯丁橡膠原料等。除去氣體中的雜質(zhì)常用的凈化方法有塵埃濾除法、水氣干燥法、選擇吸附法、催化反應(yīng)法、吸收法、金屬吸氣法和純化裝置提純法等。鑫和豐歡迎致電咨詢！

隨著我國半導(dǎo)體、制芯業(yè)的發(fā)展，高純氣體管道的應(yīng)用也越來越廣泛，象半導(dǎo)體、電子、醫(yī)l藥、食品等行業(yè)都不同程度的使用了高純氣體管道，因此高純氣體管道的施工對于我們來說也越來越重要。

在真空離子鍍膜中，在真空條件下使高純氣體（氧、氮、氬、乙炔）放電實(shí)現(xiàn)鍍膜。即金屬在特定條件下，與高純氣體綜合作用形成離子體。在高速作用下，撞擊加工工件表面。離子體牢牢粘附在加工工件的表面形成膜層。

在真空離子鍍膜中，所選用不同氣體所生產(chǎn)出來的產(chǎn)品色澤也會不一樣。999%執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：國標(biāo)：產(chǎn)品介紹：用于氣球、溫度計(jì)、電子管、潛水服等的充氣。氬氣一般用作創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。鍍鈦和鉻時，充入氮?dú)饪缮a(chǎn)出銀色和黃色的產(chǎn)品。而想要生產(chǎn)出黑色或灰色的產(chǎn)品，則需要加入乙炔氣體。加入氧氣則生產(chǎn)藍(lán)色的產(chǎn)品。除了氣體外，所生產(chǎn)出的產(chǎn)品顏色還受壓力、溫度、時間等條件影響。

三氟化氮主要用途是用作氟化l氫－氟化氣高能化學(xué)激光器的氟源，在h2-O2 與F2之間反應(yīng)能的有效部分（約25%）可以以激光輻射釋放出，所 HF-OF激光器是化學(xué)激光器中有希望的激光器。我們在檢測氧中烴類雜質(zhì)時發(fā)現(xiàn)，用純氮?dú)猓?個“9”）作載氣（氫氣和空氣相同），也能檢測到0。三氟化氮是微電子工業(yè)中一種優(yōu)良的等離子蝕刻氣體，對硅和氮化硅蝕刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳與氧氣的混合氣體有更高的蝕刻速率和選擇性，而且對表面無污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中，三氟化氮具有非常優(yōu)異的蝕刻速率和選擇性，在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時也是非常良好的清洗劑。隨著納米技術(shù)的發(fā)展和電子工業(yè)大規(guī)模的發(fā)展技術(shù)，它的需求量將日益增加。