微弧氧化電解液組成及工藝條件

　     微弧氧化電解液組成：K2SiO3 5～10g/L，Na2O2 4～6g/L，NaF 0.5～1g/L，CH3COONa 2～3g/L，Na3VO3 1～3g/L；溶液pH為11～13；溫度為20～50℃；陰極材料為不銹鋼板；微弧氧化膜層性能檢測(cè)微弧氧化膜層性能檢測(cè)儀器膜層的性能檢測(cè)包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。電解方式為先將電壓迅速上升至300V，并保持5～10s，然后將陽極氧化電壓上升至450V，電解5～10min。

       兩步電解法，靠前步：將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化5min；第二步：將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽極電流氧化15min。陰極材料為：不銹鋼板；2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。溶液溫度為20～度為20～50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線

影響微弧氧化的因素

1、微弧氧化時(shí)間的影響：微弧氧化時(shí)間一般控制在10～60min。氧化時(shí)間越長(zhǎng)，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

2、陰極材料：微弧氧化的陰極材料采用不溶性金屬材料。由于微弧氧化電解液多為堿性液，故陰極材料可采用碳鋼，不銹鋼或鎳。其方式可采用懸掛或以上述材料制作的電解槽作為陰極。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

鋁合金微弧氧化技術(shù)的特點(diǎn)

采用微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁合金進(jìn)行表面陶瓷化處理，其優(yōu)點(diǎn)如下：

1、陶瓷膜層有效提高工件性能：硬度，耐熱性，耐磨性，抗腐蝕性，絕緣性等。

2、占地小、處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)。

3、無毒環(huán)保，該液體不含有毒物質(zhì)和zhong金屬，再生重復(fù)使用。

4、通過改變液體成分，可使膜層有特種性能，或得到不同顏色。