化學拋光是靠化學試劑對樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。是為提高金屬制件表面光潔度而將其浸入酸性或堿性溶液中進行化學處理的方法?；瘜W拋光可以靠化學拋光液的自發(fā)化學反應，在不借助電力和人力的條件下，自動把待拋光的工件提高表面光潔度，可以達到鏡面效果。我們也可以簡單的理解：化學拋光就是用化學把東西變亮。在低和中等放大倍數(shù)下利用顯微鏡觀察時，這種小的起伏一般在物鏡垂直鑒別能力之內(nèi)，仍能觀察到十分清晰的組織?；瘜W拋光處理：通過化學藥液對不銹鋼，銅，鋁，等金屬表面進行拋光，清洗處理。將金屬浸入化學拋光液中，以通過化學反應來去除表面的毛刺，批峰，使得金屬表面快速拋光亮。

 化學拋光，是金屬零件在特定條件下的化學浸蝕。在這一浸蝕過程中，金屬表面被溶液浸蝕和整平，從而獲得了比較光亮的表面。

 化學拋光可以用于儀器、鋁質(zhì)反光鏡的表面精飾，以及其它零件或鍍層的裝飾性加工。

化學拋光的優(yōu)點是化學拋光設備簡單，不需要什么特殊設備，只需要一個盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。如果用細薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。有些非導體材料也可以用化學拋光，非導體嵌鑲的試樣也可以直接拋光?；瘜W拋光也可以處理形狀比較復雜的零件。

操作簡便、快速，無需專用儀器。拋光后試樣表面無變形層，可拋光經(jīng)鑲嵌后的試樣，也可同時拋光試樣的縱、橫斷面。化學拋光時兼有化學侵蝕作用，因此多數(shù)情況下能同時顯示組織，拋光結(jié)束之后可以觀察組織，不需再做侵蝕顯示。

一般認為，在電化學拋光時，金屬制品表面同時處于兩種狀態(tài)之下：微觀凸起處的金屬表面處于活化狀態(tài)，該處的溶解速度大;微觀凹處表面處于鈍化狀態(tài)，該處的金屬溶解速度小，這樣，經(jīng)電化學拋光處理一段時間后，制品表面的微凸起處便被整平，出現(xiàn)光亮的外觀。