真空鍍膜的膜層厚度如何測量？

在使用真空鍍膜機鍍膜之后，為了需要可能會要測量膜層的厚度，測量膜層的厚度用什么方法呢?

直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅(qū)動蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動擋板，保持蒸發(fā)速率。

只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精準(zhǔn)度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。

此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時，它會變得對溫度非常敏感。在長時間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區(qū)域，從而對膜層造成重大誤差。

光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的優(yōu)選監(jiān)控方式，這是因為它可以更精準(zhǔn)地控制膜層厚度(如果運用得當(dāng))。

精準(zhǔn)度的改進(jìn)源于很多因素，但根本的原因是對光學(xué)厚度的監(jiān)控。

真空鍍膜技術(shù)的優(yōu)點分析

真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點表現(xiàn)在哪里？真空鍍膜技術(shù)在塑料制品上的應(yīng)用廣泛，真空鍍膜機廠表示，塑料具有易成型，成本低，質(zhì)量輕，不腐蝕等特點，塑料制品應(yīng)用廣泛，但因其缺點制約了擴(kuò)大應(yīng)用。通過真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用，使塑料表面金屬化，將有機材料和無機材料結(jié)合起來，大大提高了它的物理、化學(xué)性能。真空鍍膜技術(shù)優(yōu)點主要表現(xiàn)在以下幾個方面：

1、使塑料表面有導(dǎo)電性；

2、容易清洗，不吸塵。

3、改善美觀，表面光滑，金屬光澤彩色化，裝飾性大大提高；

4、減少吸水率，鍍膜次數(shù)愈多，孔愈少，吸水率降低，制品不易變形，提高耐熱性；

5、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過真空鍍膜技術(shù)，硬度及耐磨性大大增加；

6、可以提高耐候性，一般塑料在室外會老化的非?？欤饕蚴亲贤饩€照射所致，而鍍鋁后，鋁對紫外線反射強，所以耐候性大大提高。

多功能真空鍍膜機是怎么構(gòu)成的？

多功能真空鍍膜機是磁控濺射、多弧離子、蒸發(fā)鍍膜的混合性設(shè)備，是在多弧離子鍍膜機的基礎(chǔ)上裝備圓柱靶或平面磁控靶，設(shè)備具有離子鍍的高離化率、高堆積速度的特色，一起也具有磁控濺射低溫、安穩(wěn)的長處，合適鍍各種復(fù)合膜。

多功能真空鍍膜機--磁控、中頻、多弧離子鍍膜具體介紹：

①蒸騰與磁控濺射的混合設(shè)備:多功能，合適量產(chǎn)，適應(yīng)性強。

②磁控濺射與多弧離子鍍的混合運用:多弧能夠進(jìn)步炮擊清洗質(zhì)量，添加薄膜與基材結(jié)合力。與磁控濺射一起作業(yè)可鍍制復(fù)合膜（高能離子源清洗活化，成膜速度快）。

③多對中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合運用:中頻靶更安穩(wěn)（如Al），離化率高、堆積速率快、成膜均勻。中頻反應(yīng)濺射如鍍制Si02、TiO2，一起鍍多層不一樣原料簿膜。

④射頻、直流、中頻、柱弧的混合運用：射頻能夠直接鍍制絕緣保護(hù)膜如SiO2/Ag/SiO2

⑤圓柱弧、中頻、多弧的混合運用:柱弧確保高離化率的一起，削減大顆粒堆積的份額，到達(dá)有好的結(jié)合力又有較好表面光潔度的作用。多功能真空鍍膜機適用中高層次商品如表帶、表殼、眼鏡框、手機殼、高爾夫球具、衛(wèi)浴潔具、飾品等。

卷繞真空鍍膜機結(jié)構(gòu)設(shè)計應(yīng)該注意的幾個問題

真空鍍膜機使用的行業(yè)不一樣，它的機型是不一樣的，那么它的結(jié)構(gòu)設(shè)計也是有很大的差別。在設(shè)計真空鍍膜機的時，我們都是要考慮到很多因素，比如：要鍍的物件大小，使用的材質(zhì)，以及它的熱點，和其他的一些細(xì)節(jié)注意事項等，都會影響真空鍍膜機的結(jié)構(gòu)設(shè)計，那么卷繞真空鍍膜機結(jié)構(gòu)設(shè)計應(yīng)該注意那幾個問題呢？下面至成真空小編，為大家詳細(xì)介紹一下：

1、提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構(gòu)的一個主要技術(shù)指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達(dá)到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達(dá)到600m/min，可見隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。

2、帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。

3、帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴(yán)重時會造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構(gòu)的設(shè)計中應(yīng)充分考慮這一問題。

卷繞鍍膜機真空抽氣系統(tǒng)分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴(kuò)散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機組或擴(kuò)散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達(dá)到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數(shù)量級。有時卷繞鍍膜機以增擴(kuò)泵（油擴(kuò)散泵的一種）為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴(kuò)散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數(shù)量級，非常適宜此類蒸發(fā)的鍍膜過程。