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發(fā)布時(shí)間:2021-03-27 09:08  

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真空鍍膜之多弧離子鍍 :

部分離子對(duì)陰極的轟擊又使陰極斑點(diǎn)局部快速蒸發(fā)并在空間迅速離化,使這些陰極弧斑點(diǎn)變成微小蒸發(fā)源,這些微小蒸發(fā)源在磁場(chǎng)和屏蔽絕緣的作用下束縛在陰極靶面做無(wú)規(guī)則運(yùn)動(dòng),從而形成大面積均勻的蒸發(fā)源,噴發(fā)出電子、離子、熔融的金屬材料和原子。大部分是離子和熔融粒子,在偏壓作用下,離子流在基體上凝聚成金屬、合金或化合物薄膜。物理l氣相沉積(真空鍍膜)基本方法:從被沉積物質(zhì)的氣化方式看,真空蒸鍍?yōu)殡娮杓訜帷㈦娮邮訜?、感?yīng)加熱、激光加熱等。

物理l氣相沉積(真空鍍膜)基本方法 :

1、從沉積粒子能量(中性原子)來(lái)看,真空蒸鍍?yōu)?.1-1eV,濺射為1-10eV,離子鍍?yōu)?.1-1eV(此外還有高能中性原子)。

2、從沉積速率來(lái)看,真空蒸鍍?yōu)?.1-70μm/min,濺射為0.01-0.05μm/min(磁控濺射接近于真空蒸鍍),離子鍍?yōu)?.1-50μm/min。

鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響 :

偏壓:偏壓施加于工件上,在輝光清洗時(shí)工件(陰極)與爐體之間產(chǎn)生輝光放電,部分氣被電子離化產(chǎn)生離子,離子(帶正電)在負(fù)偏壓作用下受工件吸引轟擊清洗工件表面,偏壓越大,對(duì)工件的轟擊凈化越干凈,但同時(shí)工件本身的溫升也越大,特別是尖角位棱角位置;③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面,因而熱效率高,熱傳導(dǎo)和熱輻射的損失少。在離子轟擊中用于加速離子,提高離子轟擊工件表面的能量,去除表面氧化層和吸附物,達(dá)到提高膜層結(jié)合力的作用。