熱油中除氫能獲得與在烘箱中除氫具有同樣的效果，由于其受熱均勻，對鍍層還具有填充孔隙的作用，有利于提高鍍層的防護功能，對設備要求也簡單。

根據(jù)工件要求提出除氫方法：例如鍍硬鉻，在鍍硬鉻時由于電流效率過低，只有13%~18%，大部分電流消耗在氫的析出上，氫容易擴散到鍍層和基體金屬的晶格中，滲氫較為嚴重，從而引起疲勞強度的降低，影響動、靜負載強度，故在設計中應提出鍍鉻后除氫處理的要求。經(jīng)除氫處理之后可去除滲入鍍層和基體中60%~70%的氫，從而大大減輕了脆性而不會降低其硬度。

真空電鍍生產(chǎn)廠家在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術之一蒸發(fā)物質如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發(fā)。蒸發(fā)物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。

真空電鍍生產(chǎn)廠家的真空鍍金屬的工藝流程為：塑料外表處理（凈化、活化）→涂底漆→枯燥→真空鍍金屬→涂面漆→枯燥。其工藝流程作簡要介紹：產(chǎn)品外表清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝.在悉數(shù)的工藝流程中，有如下幾點決定了工藝的勝敗：1：需求加工的零部件外表狀況，這包含產(chǎn)品是否存在缺點，外表狀況，外表污染物等。2：外表缺點的存在會導致外觀件較終漂亮度。當然關于細小缺點的存在，噴涂工藝能夠掩蓋。但是在注塑或許沖壓成型過程中形成的批量瑕疵品必須在進貨查驗前剔出。3：外表狀況，這涉及是否是通明件，外表特殊粗糙度規(guī)劃。規(guī)劃外觀狀況要求的，必須在工藝制定前考慮整體工藝道路，不然完成后難以得到料想的外觀效果。4：外表污染物，關于批量產(chǎn)品，怎么去除前段工序殘留的污染物是聯(lián)系質量與功率的關鍵。例如在注塑過程中產(chǎn)生的脫模劑的去除。5：夾具的規(guī)劃，這包含夾具是否適應悉數(shù)工藝流程，是否能確保外表均勻性，裝夾功率。