玻璃鍍膜機(jī)發(fā)展前景

近年來，無線充電功能在行業(yè)中不斷發(fā)酵，3D熱彎玻璃開始在手機(jī)電池后蓋背板上快速得到應(yīng)用，玻璃鍍膜機(jī)也跟隨著3D熱彎玻璃發(fā)酵，而被廣告商家認(rèn)可，銷量也快速上升。設(shè)計(jì)3D熱彎玻璃后蓋炫麗的效果，離不開光學(xué)玻璃鍍膜機(jī)的使用。

據(jù)聽說，目前行業(yè)的3D熱彎玻璃蓋板主要以應(yīng)用在電池后蓋蓋板為主。目前國內(nèi)全行業(yè)擁有的3D玻璃蓋板產(chǎn)能已突破3億片，即每天有超過100萬片的3D前后蓋板玻璃供應(yīng)到市場上，不過其中絕大部分都應(yīng)用在了電池后蓋上。

隨著后續(xù)的3D玻璃后蓋供應(yīng)鏈反應(yīng)速度加快，也帶動(dòng)了整個(gè)玻璃鍍膜機(jī)械行業(yè)的發(fā)展，玻璃鍍膜機(jī)的相關(guān)設(shè)備銷量也大幅度提升。為了滿足市場需求和得到與眾不同的裝蝕效果，各品牌都依具自己的智能手機(jī)藝術(shù)表現(xiàn)方式，設(shè)計(jì)了不同的色系與色彩展現(xiàn)方式，以此突破傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)方式，吸引眼球，充分滿足消費(fèi)者追求。

3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品設(shè)計(jì)有了新的突破，但是它的加工工藝卻是十分的復(fù)雜。蓋板廠高在加工有些3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品的時(shí)候，需要通過多層光學(xué)鍍膜與紋理轉(zhuǎn)印工藝，再通過不同的組合嘗試放置在3D玻璃蓋板或樹脂防爆膜的不同層上來實(shí)現(xiàn)，因此加工工藝十分復(fù)雜不說，占用的加工時(shí)間也很長。3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品形成，離不開玻璃鍍膜機(jī)為其運(yùn)轉(zhuǎn)加工鍍膜，可以說在產(chǎn)品形成的整個(gè)流程中，起著至關(guān)重要的作用。

隨著3D熱彎玻璃電池后蓋板產(chǎn)品脫穎而出，也被大眾所認(rèn)可，3D熱彎玻璃也將進(jìn)入一個(gè)新趨勢，未來的前景不可小覷。因此也帶動(dòng)了整個(gè)行業(yè)鏈的發(fā)展。

真空鍍膜機(jī)玻璃阻斷熱輻射什么

性能高的節(jié)能玻璃需要通過真空磁控濺射工藝在玻璃表面依次鍍上厚度為納米級的10多層金屬和非金屬薄膜，使玻璃對光譜具有選擇性透過功能，能透過大部分可見光，不影響采光，又能阻擋紅外、遠(yuǎn)紅外、紫外光，阻斷熱輻射，生產(chǎn)技術(shù)極為復(fù)雜。大面積真空鍍膜技術(shù)和以此為基礎(chǔ)的鍍膜設(shè)備制造業(yè)長期被國外公司壟斷，單條生產(chǎn)線的技術(shù)引進(jìn)和設(shè)備進(jìn)口費(fèi)用高達(dá)1.5億元。采用這一工藝生產(chǎn)的產(chǎn)品不僅克服了目前低輻射鍍膜玻璃普遍存在的膜層易脫落、易氧化、不能熱加工等不足，而且具有可鋼化，鍍層暴露在大氣中3個(gè)月以上不氧化、可異地加工等優(yōu)異性能。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因?yàn)锳l膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會(huì)造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時(shí)圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)，行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時(shí)均勻轉(zhuǎn)動(dòng)，各個(gè)基片在沉積Al膜時(shí)的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點(diǎn)在坩堝蒸發(fā)源處，各個(gè)基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。

高頻磁控濺射設(shè)備有什么特點(diǎn)

高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時(shí)接地技術(shù)很復(fù)雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應(yīng)濺射。就是用金屬靶，加入氣體和反應(yīng)氣體如氮?dú)饣蜓鯕?。?dāng)金屬靶材撞向零件時(shí)由于能量轉(zhuǎn)化，與反應(yīng)氣體化合生成氮化物或氧化物。 磁控反應(yīng)濺射絕緣體看似容易,而實(shí)際操作困難。主要問題是反應(yīng)不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術(shù)，很好的解決了這個(gè)問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因?yàn)槟芰亢艽笠徊糠洲D(zhuǎn)為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達(dá)一千度以上從而溶化整個(gè)靶源。