化學(xué)鍍鎳是用還原劑把溶液中的鎳離子還原沉積在具有催化活性的表面上。化學(xué)鍍鎳可以選用多種還原劑，目前工業(yè)上應(yīng)用普遍的是以次磷酸鈉為還原劑的化學(xué)鍍鎳工藝，其反應(yīng)機(jī)理，普遍被接受的是“原子氫理論”和“氫化物理論”。

鎳封是在一般光亮鎳液中加入直徑在0.01~~1um之間的不溶性固體微粒(Sio2等)﹐在適當(dāng)?shù)墓渤练e促進(jìn)劑幫助下﹐使這些微粒與鎳共沉積而形成復(fù)合鍍鎳層。當(dāng)在這種復(fù)合鍍鎳層表上沉積鉻層時(shí)﹐由于復(fù)合鍍鎳層表面上的固體微粒不導(dǎo)電﹐鉻不能沉積在微粒表面上﹐因而在整個(gè)鍍鉻層上的形成大量微孔﹐即形成微孔鉻層。

化學(xué)鎳處理藥劑

化學(xué)鎳廢水，除磷需要使用次亞磷去除劑P3進(jìn)行處理，除鎳需要通過(guò)除鎳劑M2進(jìn)行處理，能夠把鎳磷處理至表三標(biāo)準(zhǔn)。

次亞磷去除劑P3是一種無(wú)機(jī)復(fù)合鹽，在廢水中，的催化作用下，能夠直接與次磷酸根離子結(jié)合生成沉淀;髙效除鎳劑是一種有機(jī)化合物，通過(guò)螯合的原理，把絡(luò)合鎳中的絡(luò)合劑破壞掉，從而與鎳離子結(jié)合生成沉淀。

在鍍鋅加工過(guò)程，我們時(shí)常會(huì)看到成品的五金件表面出現(xiàn)鍍層粗糙的情況，化學(xué)鎳電鍍廠，這到底是怎么回事呢？在這里電鍍加工廠就向大家盤(pán)點(diǎn)鍍鋅過(guò)程中導(dǎo)致鍍層粗糙的原因：

(1)、鋅含量過(guò)高；

(2)、NaOH含量過(guò)低；

(3)、鍍液中有固體顆粒；

(4)、光亮劑含量太低；

(5)、溫度太高；

(6)、陰極電流密度過(guò)大；

出現(xiàn)以上六種情況都有可能會(huì)造成鍍鋅過(guò)程中鍍件的鍍層粗糙。

化學(xué)鎳電鍍的注意事項(xiàng)

1.化學(xué)鎳電鍍每班開(kāi)槽前應(yīng)分析調(diào)整鍍液，并進(jìn)行試鍍，確定鍍液狀況良好后再批量入槽生產(chǎn)。

2.每班關(guān)槽前必須將鍍液循環(huán)過(guò)濾，去除有害微粒，掉入槽內(nèi)的工件應(yīng)及時(shí)撈出。

3.過(guò)濾機(jī)的濾芯用后要取出沖洗干凈，在過(guò)濾不同鍍液時(shí)更應(yīng)如此，嚴(yán)禁過(guò)濾機(jī)及濾芯不經(jīng)清洗直接過(guò)濾槽液（過(guò)濾過(guò)亂鍍鍍液或分解鍍液的濾芯應(yīng)廢棄不能再使用）。

4.根據(jù)化學(xué)鎳電鍍的工件重要程度可選擇新舊鍍液區(qū)別對(duì)待，也可先用舊鍍液進(jìn)行預(yù)鍍，取出后放入新鍍液中鍍覆，尤其在鍍覆鋁基體工件時(shí)，此法可延長(zhǎng)鍍液使用壽命。

5.工件入槽時(shí)采取小批量同時(shí)入槽的方式，并記下每批入槽的準(zhǔn)確時(shí)間，鍍覆時(shí)間的長(zhǎng)短應(yīng)根據(jù)鍍層的厚度要求而定，必須采用測(cè)定小試片的鍍厚及鍍速來(lái)決定鍍覆時(shí)間。

6.化學(xué)鎳電鍍的工件放入鍍槽后要經(jīng)?；蝿?dòng)和攪拌，嚴(yán)禁相互接觸和碰撞，同時(shí)不斷變換工件放置位置，一般使盲孔向上，以利氣泡的排出，圓柱形工件應(yīng)豎放，以避免機(jī)械雜質(zhì)落于工件表面，造成鍍層出現(xiàn)毛刺。