鍍鈦是作為金屬材料的表面處理的一種工藝，現(xiàn)在已經在工業(yè)領域普遍應用并有逐漸推廣使用的意向。在二十世紀七十年代末，人類就已經開始物理氣相沉積技術，即PVD技術。物理氣相沉積技術可以應用在硬質膜的制造上，它能夠提高產品的機械化學性能，使制造出的產品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。這種技術在開始使用時，就在的工具制造業(yè)引起了巨大的反響，受到了高度重視。同時，這種技術工藝符合現(xiàn)代人們對環(huán)境無污染加工技術的要求，是一種綠色環(huán)保的技術。

離子電流幾乎與氣體流量成正比

簡單耐用。離子電流幾乎與氣體流量成正比，可以獲得更大的離子電流。鎢絲一般穿過出口，受到離子束的沖擊會很快被腐蝕，特別是對于反應性氣體，通常需要十幾個小時才能更換。而且鎢絲也會有一定的污染。解決鎢絲的缺點。有壽命長的中和劑，如小型空心陰極源?；魻栯x子源是應用的離子源。離子源，如Veece的MarkI和MarkII。適合大部分國產離子源。

濺射鍍膜的基本原理:充(Ar)氣的真空環(huán)境中

濺射鍍膜的基本原理：充(Ar)氣的真空環(huán)境中，當(Ar)原子被電離，形成離子(Ar)時，離子在電場力的作用下，加速轟擊用鍍料制成的陰極靶，靶將濺射出來并沉積在工件表面。濺射膜中的入射離子，一般是通過輝光放電獲得的，在l0-2Pa~10Pa范圍內，因此濺射出的粒子在飛向基體時，容易與空氣中的氣體分子發(fā)生碰撞，使其運動方向隨機，沉積的薄膜容易均勻。