PVD技術出現于，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩(wěn)定性等優(yōu)點。在高速具領域的成功應用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視，人們在開發(fā)、高可靠性涂層設備的同時，也在硬質合金、陶瓷類刀具中進行了更加深入的涂層應用研究。

與CVD工藝相比，PVD工藝處理溫度低，在600℃以下時對刀具材料的抗彎強度無影響；薄膜內部應力狀態(tài)為壓應力，更適于對硬質合金精密復雜刀具的涂層；PVD工藝對環(huán)境無不利影響，符合現代綠色制造的發(fā)展方向。

原子沉積過程可以在真空，氣態(tài)，等離子體或電解環(huán)境中進行。而且，沉積室中的真空環(huán)境會將沉積過程中的氣態(tài)污染降低到非常低的水平。

過去的幾十年展示了PVD技術的發(fā)展，旨在改善涂層特性和沉積速率，而無需保留初始表面清潔以去除可能的污染物。該技術已經得到了相關的改進，主要是在碳化物和納米復合過渡金屬氮化物襯底上。盡管這種方法的沉積速率有效性的提高一直是與這種技術有關的工業(yè)關注的重點，但研究仍集中在改善涂層的特性上。

對于需要更高的表面形態(tài)質量的應用（對于粗糙度，晶粒尺寸，化學計量和其他要求比沉積速率更重要的應用），濺射工藝似乎是一種替代方法。由于在冷卻過程中隨著溫度或基材（聚合物）熔化溫度的降低而產生的應力，沉積過程對某些應用提出了溫度限制。這導致濺射工藝在PVD沉積技術中變得更加重要，同時又不會忘記基于濺射工藝的新技術的出現，以滿足不斷增長的市場需求。