硫酸含量在180~240g/L之間，硫酸銅含量在75g/L左右，鍍液中存在微量氯離子，可作為輔助光亮劑和銅光亮劑發(fā)揮光澤作用。銅光亮劑的加入量為3/5ml/L，加銅光亮劑時通常采用千安培法，或根據(jù)實際生產(chǎn)板的效果，計算出全板電鍍的電流一般為2A/2分米乘以紙板上電鍍面積，銅缸溫度一般控制在22°32度。

我國作為電鍍大國，各種先進技術都有體現(xiàn)。真空電鍍工作有著寬廣的展開前景。未來我國電鍍工作將向以下四個方向展開：一、傳統(tǒng)裝修性電鍍將被噴涂、物相堆積等代替，功能性電鍍產(chǎn)品需求則有上升的趨勢；二、某些污染嚴峻的電鍍工藝將被清潔的電鍍工業(yè)所代替；三、部分性能好、無污染的表面工程的高新技術將進入我國商場。四、隨著轎車、電子、家用電器、航空、航天工業(yè)、建筑工業(yè)及相應的裝修工業(yè)的展開以及人們對美化日子需求的不斷提高,對真空電鍍產(chǎn)品的裝修性和抗蝕性的需求將明顯增加。

1)、場致發(fā)射--通過機械磨光和洗凈的電極雙面，微觀上依然存在高低不平，存在許多微米級的尖峰杰出物，尖峰處的部分電場或許添加上百倍，會發(fā)射電子流。假設電極外表有雜質(zhì)或氧化物存在，電極外表的逸出功會下降，場致發(fā)射更易產(chǎn)生。尖峰發(fā)射的電子流雖不大，但因其面積小，電流密度卻很大，會使部分發(fā)熱，不只電子發(fā)射增強，還或許產(chǎn)生蒸騰、熔化，開釋出金屬蒸氣，金屬原子又與發(fā)射電子磕碰構成游離，呈現(xiàn)擊穿。2)、微粒碰擊--電極外表老是存在一些金屬微粒，微粒在電場效果下帶著電荷脫離電極，加快碰擊對方電極，由動能轉(zhuǎn)為熱能，致使部分加熱、汽化，開釋許多金屬蒸氣，構成金屬云，致使空位擊穿。