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發(fā)布時(shí)間:2021-03-07 07:46  
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X-RAY測(cè)厚儀特點(diǎn)
1,價(jià)格高,機(jī)種不同,價(jià)格在10萬(wàn)~100萬(wàn)左右,可測(cè)試P(磷)~U(鈾),并且支持Rohs及元素分析功能等。
2,無(wú)損檢測(cè),Windows操作系統(tǒng),使用簡(jiǎn)便。操作快速,能適應(yīng)多類鍍層,大量檢測(cè),但體積較大,計(jì)算機(jī)除外約100000cm2,50000g左右。
3,測(cè)量厚度范圍較廣,
0.002um~100um左右,能測(cè)試5層以上膜厚,并且可以測(cè)量合金鍍層,也可分析鍍層元素和含量比。
4,測(cè)量精度高,1%左右,分辨率高,0.001um左右。
5,測(cè)頭的面積較小,對(duì)需測(cè)的樣品要求不高:0.1mmψ以下也可測(cè)量,基材厚度無(wú)要求。
6,可編程XYZ測(cè)量臺(tái)及大移動(dòng)范圍。
江蘇一六儀器 X熒光鍍層測(cè)厚儀 一六儀器、一liu品質(zhì)!各種涂鍍層、膜層的檢測(cè)難題歡迎咨詢聯(lián)系!
1X射線激發(fā)系統(tǒng)垂直上照式X射線光學(xué)系統(tǒng)空冷式微聚焦型X射線管,Be窗標(biāo)準(zhǔn)靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等功率:50W(4-50kV,0-1.0mA)-標(biāo)準(zhǔn)75W(4-50kV,0-1.5mA)-任選X射線管功率可編程控制裝備有安全防射線光閘
2濾光片程控交換系統(tǒng)根據(jù)靶材,標(biāo)準(zhǔn)裝備有相應(yīng)的一次X射線濾光片系統(tǒng)二次X射線濾光片:3個(gè)位置程控交換,Co、Ni、Fe、V等多種材質(zhì)、多種厚度的二次濾光片任選位置傳感器保護(hù)裝置,防止樣品碰創(chuàng)探測(cè)器窗口
3準(zhǔn)直器程控交換系統(tǒng)多可同時(shí)裝配6種規(guī)格的準(zhǔn)直器,程序交換控制多種規(guī)格尺寸準(zhǔn)直器任選:-圓形,如4、6、8、12、20mil等-矩形,如1x2、2x2、0.5x10、1x10、2x10、4x16等
4測(cè)量斑點(diǎn)尺寸在12.7mm聚焦距離時(shí),測(cè)量斑點(diǎn)尺寸小至為:0.078x0.055mm(使用0.025x0.05mm準(zhǔn)直器)在12.7mm聚焦距離時(shí),測(cè)量斑點(diǎn)尺寸大至為:0.38x0.42mm(使用0.3mm準(zhǔn)直器)
5X射線探測(cè)系統(tǒng)封氣正比計(jì)數(shù)器裝備有峰漂移自動(dòng)校正功能的高速信號(hào)處理電路
6樣品室CMI900CMI950-樣品室結(jié)構(gòu)開槽式樣品室開閉式樣品室-樣品臺(tái)尺寸610mmx610mm300mmx300mm-XY軸程控移動(dòng)范圍標(biāo)準(zhǔn):152.4x177.8mm任選:50.8mmx152.4mm50.4mmx177.8mm101.6x177.8mm177.8x177.8mm610mmx610mm300mmx300mm-Z軸程控移動(dòng)高度43.18mmXYZ程控時(shí),152.4mmXY軸手動(dòng)時(shí),269.2mm-XYZ三軸控制方式多種控制方式任選:XYZ三軸程序控制、XY軸手動(dòng)控制和Z軸程序控制、XYZ三軸手動(dòng)控制
江蘇一六儀器 專業(yè)涂鍍層研發(fā)、生產(chǎn)、銷售高新技術(shù)企業(yè)。其中穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)、先進(jìn)的解譜方法和EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位及變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),解決了各種大小異形、多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題。
單鍍層:Zn, Ni,Cr,Cu,Ag,Au,Sn等。
雙鍍層:Au/Ni/Cu,Cr/Ni/Cu,Au/Ag/Ni,Sn/Cu/Brass,等等。
三鍍層:Au/Ni/Cu/ABS,Au/Ag/Ni/Cu, Au/Ni/Cu/Fe,等等
一、功能
1. 采用 X 射線熒光光譜法無(wú)損測(cè)量金屬鍍層、覆蓋層厚度,測(cè)量方法滿足
GB/T 16921-2005 標(biāo)準(zhǔn)(等同 ISO3497:2000、 ASTM B568 和 DIN50987)。
2. 鍍層層數(shù):多至 5 層。
3. 測(cè)量點(diǎn)尺寸:圓形測(cè)量點(diǎn),直徑約 0.2—0.8毫米。
4. 測(cè)量時(shí)間:通常 30 秒。
5. 測(cè)量誤差:通常小于 5%,視樣品具體情況而定。
6. 可測(cè)厚度范圍:通常 0.01 微米到 30 微米,視樣品組成和鍍層結(jié)構(gòu)而定。

江蘇一六儀器 X射線熒光光譜測(cè)厚儀
產(chǎn)品配置
X光金屬鍍層測(cè)厚儀標(biāo)準(zhǔn)配置為:X射線管,正比計(jì)數(shù)器﹨半導(dǎo)體探測(cè)器,高清攝像頭,高度激光,信號(hào)檢測(cè)電子電路。
性能指標(biāo)
X射線激發(fā)系統(tǒng) 垂直上照式X射線光學(xué)系統(tǒng)
空冷式微聚焦型X射線管,Be窗
標(biāo)準(zhǔn)靶材:Rh靶;任選靶材:W、Mo、Ag等
X射線管:管電壓50KV,管電流1mA
可測(cè)元素:CI~U
檢測(cè)器:正比計(jì)數(shù)管
樣品觀察:CCD攝像頭
測(cè)定軟件:薄膜FP法、檢量線法
Z軸程控移動(dòng)高度 20mm

