真空鍍膜設備多弧離子鍍膜工藝不僅避免了傳統(tǒng)表面處理的不足，且各項技術指標都優(yōu)于傳統(tǒng)工藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。催化液和傳統(tǒng)處理工藝相比，在技術上有哪些創(chuàng)新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不銹鋼的四分之一，可反復利用，大大降低了成本。

2、多弧離子鍍膜易操作、工藝簡單、把金屬基件浸入兌好的液體中“一泡即成”，需要再加工時不經(jīng)任何處理。

3、多弧離子鍍膜無污染，無毒無味，無三廢排放，屬國家環(huán)保產(chǎn)品技術。

4、多弧離子鍍膜好處理、使用方便；形狀復雜的金屬基件都能處理。

5、多弧離子鍍膜硬度大，硬度增強、催化液泡過的金屬基件硬度是多弧離子鍍膜工藝的幾倍。

6、多弧離子鍍膜不會生銹，催化液浸泡過的金屬基件已滲透表皮里面，不起皮、不脫落。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟及原理

廠家在采購PVD真空鍍膜機時，商家都會培訓PVD真空鍍膜機的相關知識，如鍍膜技術工藝步驟、原理、保養(yǎng)維護方法，機器的運行注意事項等等，今天至成小編為大家介紹一下PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟和原理。

PVD真空鍍膜機鍍膜技術工藝步驟，分為以下四個步驟：

（1）清洗工件：接通直流電源，Ar氣進行輝光放電為Ar離子，Ar離子轟擊工件表面，工件表層粒子和臟物被轟濺拋出；

（2）鍍料的氣化：即通入交流電后，使鍍料蒸發(fā)氣化。

（3）鍍料離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞以及高壓電場后，高速沖向工件；

（4）鍍料原子、分子或離子在基體上沉積：工件表面上的蒸發(fā)料離子超過濺失離子的數(shù)量時，則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

如果是鍍離子鍍時，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能，高速轟擊工件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特別牢。

光學真空鍍膜機鍍膜技術和裝備

光學真空鍍膜機給人感覺，遙不可及，但是現(xiàn)如今光學鍍膜機在市場上使用非常廣泛了，也得到了很多廠商的認可和喜愛。今天至成小編為大家講解一下關于光學鍍膜相關的知識。光學薄膜是現(xiàn)代光學和光電系統(tǒng)重要的組成部分，在光通信、光學顯示、激光加工、激光核聚變等高科技及產(chǎn)業(yè)領域已經(jīng)成為核心元器件，其技術突破常常成為現(xiàn)代光學及光電系統(tǒng)加速發(fā)展的主因。光學薄膜的技術性能和可靠性，直接影響到應用系統(tǒng)的性能、可靠性及成本。隨著行業(yè)的不斷發(fā)展，精密光學系統(tǒng)對光學薄膜的光譜控制能力和精度要求越來越高，而消費電子對光學薄膜器件的需求更強調超大的量產(chǎn)規(guī)模和普通大眾的易用和舒適性。