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發(fā)布時(shí)間:2020-07-26 22:00  
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金屬表面處理PVD鍍鈦種類:氮化鈦(TiN),鍍鉻(CrN), ROSE,氮鋁鈦(TiAlN),高鋁鈦(AlTiN), PLUS,氮碳化鈦(TiCN),氮碳化鉻(CrCN)等各種超硬膜層,其涂層厚度可達(dá)到0.5~5um,故而您不用擔(dān)心會(huì)給尺寸帶來(lái)麻煩,并以工藝使產(chǎn)品具有良好的潤(rùn)滑、散熱(干式),使工件壽命可增加10~50倍,可提高600%工作效力,從而降低生產(chǎn)成本。其缺點(diǎn)是:1)工藝比傳統(tǒng)單色PVD的更為復(fù)雜,流程更為繁雜,生產(chǎn)難度高。
直流二級(jí)離子鍍,是穩(wěn)定的輝光放電;空心陰極離子鍍與熱絲弧離子鍍,是熱弧光放電,產(chǎn)生電子的原因均可簡(jiǎn)單概括為金屬材料由于被加熱到很高的溫度,導(dǎo)致核外電子的熱發(fā)射;圓柱形磁控濺射陰極也逐步運(yùn)用到生產(chǎn)當(dāng)中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低。陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同,它采用的是冷弧光放電。在眾多離子鍍膜技術(shù)中陰極電弧離子鍍可謂是其中的集大成者,其目前已經(jīng)逐步發(fā)展為硬質(zhì)薄膜領(lǐng)域的主力。
靶材承受的功率密度是有限的.靶面溫度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致靶材熔化或引起弧光放電.在直接水冷的情況下,金屬靶材的靶功率密度允許值為10~30W/cm2.根據(jù)選定的靶電壓和允許的靶功率密度,即可確定靶電流密度.
降低Ar壓強(qiáng)有利于提高鍍膜速率,還有利于提高膜層結(jié)合力和膜層致密度.磁控濺射的Ar壓強(qiáng)通常選為0.5Pa,氣體放電的阻抗隨Ar壓強(qiáng)的降低而升高.磁控濺射時(shí),可以適當(dāng)調(diào)節(jié)Ar壓強(qiáng),