微弧氧化特點(diǎn)

     （1）電解液呈弱堿性，對(duì)環(huán)境沒(méi)有污染；（2）工藝簡(jiǎn)單，對(duì)工件的預(yù)處理只要求表面去油去污，不需去除表面的自然氧化層，適用于大規(guī)模自動(dòng)化產(chǎn)生；3、允許溫度變化范圍寬，電解液允許的溫度范圍一般為10-70℃。（3）微弧氧化可以一次完成，也可以分幾次完成，而陽(yáng)極氧化一旦中斷就必須重新開(kāi)始；（4）不需要真空或低溫條件。絕緣等特性。在航空航天、機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化技術(shù)、微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)公司

       微弧氧化膜層生長(zhǎng)發(fā)育時(shí)，先在基體表面產(chǎn)生放熱反應(yīng)，轉(zhuǎn)化成一層陽(yáng)極處理膜。當(dāng)擴(kuò)大反映電壓時(shí)，膜層厚度會(huì)進(jìn)一步增加，再次增加電壓，厚度會(huì)隨著增加?？墒钱?dāng)反映電壓增加到一定水平時(shí)，膜層會(huì)因?yàn)椴豢梢猿袚?dān)該工作電壓產(chǎn)生充放電且熱擊穿，造成低溫等離子充放電。反映的高溫將使膜層產(chǎn)生熔化，基體原素因?yàn)樘幱诟谎踝匀画h(huán)境中，將產(chǎn)生化合物。另外因?yàn)槭窃阡囯姵仉娊庖褐?，熔化物將一瞬間冷凝器，在基體表面轉(zhuǎn)化成一層瓷器。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過(guò)3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。陶瓷膜的轉(zhuǎn)化成，將造成工作電壓進(jìn)一步上升，膜層再度被熱擊穿，膜層厚度進(jìn)一步增加。循環(huán)反復(fù)，膜層足以生長(zhǎng)發(fā)育。 微弧氧化生產(chǎn)商、微弧氧化電源

微弧氧化膜層的性能能夠達(dá)到何種程度？

       一般來(lái)講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內(nèi)部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結(jié)合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦?lái)看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結(jié)合力，對(duì)膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨(dú)強(qiáng)調(diào)某種性能。在一些電子元器件或電場(chǎng)中的器件，微弧氧化膜層可提高其絕緣特性。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據(jù)需求對(duì)膜層厚度、溶液成分等進(jìn)行調(diào)制，滿足耐蝕400小時(shí)、600小時(shí)等特殊需求。