鍍膜技術(shù)在集成電路制造中的應(yīng)用 晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見氣相沉積術(shù)制備集成電路的核心技術(shù)之一。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

真空鍍膜的操作規(guī)程

1．在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)，須先開水管，工作中應(yīng)注意水壓。

2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。

3．在用電子槍鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀察窗的玻璃用鉛玻璃。

4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。

5．有毒物品要妥善保管，以防。

6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。

7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。

8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。

真空鍍膜機(jī)是指需要在各種高真空狀態(tài)下進(jìn)行的涂層，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積組成。

真空鍍膜機(jī)也是目前制造真空條件使用的真空設(shè)備，一般由真空室、真空機(jī)、電控盒三部分組成。鍍膜設(shè)備的清洗：設(shè)備使用一周后，涂層材料不僅涂在工件表面，而且由于不定向，還涂在工作室的襯板上，涂層厚度越來越厚。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。這一層的膜厚由于組織和纏繞而松散，吸收了大量氣體，導(dǎo)致真空鍍膜設(shè)備泵送越來越慢，所以這個(gè)時(shí)候工作室和襯板都要清理干凈。如果不必要地拆下零件，可以用砂紙打磨。

真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。

真空鍍膜設(shè)備真空系統(tǒng)技術(shù)要求

真空系統(tǒng)能夠通過外接電極進(jìn)行控制、監(jiān)測(cè)、加熱等磁控濺射鍍膜需要對(duì)工件進(jìn)行烘烤除氣、用離子轟擊進(jìn)行除氣和清洗以提高薄膜的質(zhì)量和結(jié)合力，除此之外還希望能夠監(jiān)測(cè)工件鍍膜時(shí)的溫度，在線控制薄膜厚度。