真空設計應考慮節(jié)能減排低碳原則

傳統(tǒng)的真空設計，對于真空室設計，為了節(jié)約加工成本，采用易加工簡單的真空室，對抽真空系統(tǒng)設計，經(jīng)常選用極限真空較高的機械泵、羅茨泵、擴散泵組合系統(tǒng)，但當前從節(jié)能減排的低碳要求出發(fā)，往往是不合理的，而且用戶日后在長期運行中，能耗很大，使應用真空的產(chǎn)品后續(xù)成本大為提高。

過去的真空設計較多考慮真空室參數(shù)選用，抽氣時間計算，真空室容積、抽氣速率、漏率、壓升率、極限真空、強度計算、真空管道分子流流導計算，真空系統(tǒng)的設計和選用。

當然這些都是需要的，在當時的歷史經(jīng)濟背景下，很少考慮節(jié)能減排，而在當前的世界經(jīng)濟發(fā)展危及地球氣候變暖，生態(tài)失去平衡，以及能源短缺的背景下，真空設計注重節(jié)能減排的低碳原則，同其它用電大戶一樣，有義不容辭的責任；

固然，這樣改進真空設計，一般也可能降低真空設備制造成本，但有時即使設計中貫徹低碳原則，提高了些成本，也應在所不惜，譬如涉及抽氣時間的真空室容積選擇，不能一開始就選用圓柱形筒狀，必須依低碳原則考慮一下其它形狀能否更節(jié)能。

在現(xiàn)代先進的加工、焊接技術(shù)條件下，需要權(quán)衡一下把節(jié)能考慮的‘權(quán)重’提高。又譬如涉及極限真空的選擇，不能一開始就追求選用高的極限真空的指標，極限真空非常高，當然能使背景真空非常潔凈，對工藝有利，但不能無節(jié)制，常常在不影響工藝的條件下，可以選用極限真空不太高的指標。

真空鍍膜設備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環(huán)境的要求。真空對環(huán)境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個方面。

這兩個方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設備的正常使用；而真空設備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒有經(jīng)過清洗的情況下用油封機械泵去抽氣，要達到預期的真空度很難的。眾所周，油封式機械泵不宜抽除對金屬有腐蝕性、對真空油其反應的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當大量抽除可凝性氣體時，對泵油的污染會更加嚴重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。

工業(yè)環(huán)境中的粉塵是以粉狀體、眼無題、粉塵來區(qū)分的。粉狀體是粉末或固體顆粒的集合或分散狀態(tài)的物質(zhì)。所謂粉末是指微小的固體顆粒的集合，而顆粒是指能夠一個一個計數(shù)的微小物質(zhì)。煙霧體是以固體或液體的微小顆粒呈浮狀態(tài)存在于氣體中的物質(zhì)體系。物質(zhì)無論是固體還是液體，凡是呈顆粒狀態(tài)均可統(tǒng)稱為塵粒。以塵粒直徑的大小來確定空氣清潔度的標準，從而定制出潔凈室的等級。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門，也適合于真空對潔凈環(huán)境的要求。

真空鍍膜設備的正常工作條件

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

那么，真空鍍膜設備的正常工作條件有哪些？我們一起來看看吧：

1、環(huán)境溫度：10~30℃

2、相對濕度：不大于70%

3、冷卻水進水溫度：不高于25℃

4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當?shù)乃?

5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動范圍342~399V或198V~231V，頻率波動范圍49~51Hz；

6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7、設備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?；驓怏w存在。

此外，真空鍍膜設備所在實驗室或車間應保持清潔衛(wèi)生。而且地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機械泵工作時排出的氣體對實驗室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。