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發(fā)布時(shí)間:2020-12-15 10:43  

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離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造

EDI的基本工作原理   EDI是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來(lái)克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H 和OH-,這些離子對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持狀態(tài)。 純水生產(chǎn)設(shè)備廠家食品行業(yè)純水系統(tǒng)設(shè)計(jì)原則 1、工程以投資省,運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低,占地面積小為原則。 2、純水系統(tǒng)先進(jìn),設(shè)備運(yùn)行穩(wěn)定可靠,維護(hù)簡(jiǎn)單、操作方便。 3、純水系統(tǒng)不產(chǎn)生二次污染源污染環(huán)境。 4、控制管理按處理工藝過程要求盡量考慮自控,降低運(yùn)行操作的勞動(dòng)強(qiáng)度。


EDI膜塊被污染堵塞可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行評(píng)估

通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾個(gè)方面進(jìn)行評(píng)估判定: 1、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下,進(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高 45%。 2、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下,濃水進(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。 3、在進(jìn)水溫度、流量及電導(dǎo)率不變的情況下,產(chǎn)水水質(zhì)(電阻率)明顯下降。 4、在進(jìn)水溫度、流量不變的情況下,濃水排水流量下降35%。 膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式: 1、顆粒/膠體污堵 2、無(wú)機(jī)物污堵 3、有機(jī)物污堵 4、微生物污堵 EDI 清洗注意:在清洗或消毒之前請(qǐng)先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程,切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進(jìn)行化學(xué)清洗。


高純水的含量小于0

什么是高純水 高純水是化學(xué)純度極高的水,其中的雜質(zhì)的含量小于0.1mg/L,一般在電子、、航天或其他特殊行業(yè)工藝生產(chǎn)中,為了達(dá)到產(chǎn)品所需工藝用水,一般需要電導(dǎo)率0.055μS/cm(電阻率18.2 MΩ?cm)的理論純水,統(tǒng)稱為高純水或超純水 目前人們制成的高純水的純度已經(jīng)達(dá)到99.999999%,其中雜質(zhì)含量低于0.01mg/L,將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下,電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm。


高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水

高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì) 可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水,無(wú)需因樹脂再生而停機(jī)。 無(wú)污染物排放,既環(huán)保又省去了廢液處理的投資。 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,節(jié)省空間,同時(shí)還具有節(jié)能優(yōu)點(diǎn)。 日常保養(yǎng),操作簡(jiǎn)單,勞動(dòng)強(qiáng)度低。 主要應(yīng)用行業(yè) 廣泛用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室,也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水,以及其它應(yīng)用高純水。