國外于60年前開始生產(chǎn)稀土拋光粉，二十世紀90年代已形成各種標準化、系列化的產(chǎn)品達30多種規(guī)格牌號。

　　目前，國外的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家主要有15家（年生產(chǎn)能力為200噸以上者）。其中，法國羅地亞公司年生產(chǎn)能力為2200多噸。是目前大的稀土拋光粉生產(chǎn)廠家。美國的拋光粉年產(chǎn)量能力達1500噸以上。

。日本生產(chǎn)稀土拋光粉的原料采用氟碳礦、粗氯化和氯化稀土三種，工藝上各不相同。日本稀土拋光粉的生產(chǎn)在燒結(jié)設備和技術(shù)上均具特色。1968年，我國在上海躍龍化工廠研制成功稀土拋光粉。




此外，稀土拋光粉也可以根據(jù)其添加劑的不同種類來劃分，稀土拋光粉生產(chǎn)技術(shù)屬于微粉工程技術(shù)，稀土拋光粉屬于超細粉體，國際上一般將超細粉體分3種：納米級（1nm~100nm）；亞微米級（100nm~1μm）；微米級（1μm~100μm），據(jù)此分類方法，稀土拋光粉可以分為：納米級稀土拋光粉、亞微米級稀土拋光粉及微米級稀土拋光粉3類，通常我們使用的稀土拋光粉一般為微米級，其粒度分布在1μm~10μm之間，稀土拋光粉根據(jù)其物理化學性質(zhì)一般使用在玻璃拋光的后工序，進行精磨

　　主要指標：產(chǎn)品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率約95%;平均粒經(jīng)1μm~6μm（或粒度為200目~300目），晶形完好。該產(chǎn)品適用于高速拋光。這種高拋光粉早代替了古典拋光的氧化鐵粉（）。

　　1.4.2中系稀土拋光粉的制備

　　用混合稀土氫氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）為原料，以化學方法預處理得稀土鹽溶液，加入中間體（沉淀劑）使轉(zhuǎn)化成w（CeO2）=80%~85%的中級系稀土拋光粉產(chǎn)品。其主要工藝過程為：

　　原料→氧化→優(yōu)溶→過濾→酸溶→沉淀→洗滌過濾→高溫煅燒→細磨篩分→中級系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設備：氧化槽，優(yōu)溶槽，酸溶槽，沉淀槽，過濾機，煅燒爐，細磨篩分機及包裝機。

原料→干法細磨→配料→混粉→焙燒→磨細篩分→低級系稀土拋光粉產(chǎn)品。主要設備：球磨機，混料機，焙燒爐，篩分機等。主要指標：產(chǎn)品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;產(chǎn)品粒度為1.5μm~2.5μm.該產(chǎn)品適合于眼鏡片、電視機顯象管的高速拋光之用。目前，國內(nèi)生產(chǎn)的低級系稀土拋光粉的量，約占總產(chǎn)量的90%以上。