光刻技術，重頭戲是物理技術，光刻的前道工序如涂膠，后道如顯影，都是化學技術，對機器要求不算高。唯獨曝光工序才是難的，其中難又在于光刻機，也就是一只巨型單反相機，其光源和鏡頭，還有控制技術估計已經(jīng)是人類的極限了，巨難做。刻蝕說得形象點就是沿著曝光圖形刻槽，化學成分比較大，并不算十分關鍵的設備，我朝的刻蝕機技術還是很不錯的。

電解蝕刻實際就是電解某種金屬材料，如電解銅、鐵等。具體做法是將要蝕刻的制件做陽極，用耐蝕金屬材料做輔助陰極。將陽極連接電源的正極，輔助陰極連接電源的負極。如圖6—7所示。

 電解蝕刻工作原理示意圖

當電流通過電極和電解質(zhì)溶液時，在電極的表面及電解質(zhì)溶液中發(fā)生電化學反應，利用這種反應將要溶解去除的部分金屬去除，達到金屬腐蝕的目的。根據(jù)法拉第定律，電流的通過量與金屬的溶解量成正比，也就是被蝕刻的金屬越多，消耗的電量就越大。根據(jù)電化學原理，電解蝕刻裝置的電源接通后，在陽極上發(fā)生氧化反應、在輔助陰極上發(fā)生還原反應。陽極反應的結(jié)果是蝕刻部位的金屬被氧化變成水合離子或絡合離子進入電解質(zhì)溶液

因此，蝕刻部位的金屬不斷地溶解并在金屬的表面留下當量電子，其反應式

如下：

式中 M-蝕刻金屬的原子；

ne—溶解金屬留下的當量電子數(shù)；

M ne—失去ne個電子的金屬離子，未水合化；

M ne.xH20—進入電解液的金屬水合離子。

陰極上的反應是電解溶液中的還原性物質(zhì)如氫離子、氧分子或金屬正離子等在陰極上得到電子，還原成氫氣析出或生成氫氧根負離子或金屬沉積物附著在陰極上，因此陰極反應是各種還原反應的結(jié)果。其電極反應如下：2H 2e→H2↑2H20 02 4e→40H-M ne ne→M↓

從上可以看到，電解蝕刻主要是利用電流加快蝕刻部位金屬的溶解，而不是化學蝕刻那樣要加入各種添加劑，特別是催速劑。在某種條件下還可能一面將蝕刻的金屬溶解，另一方面又能將溶解的金屬在陰極上沉積而回收。從示意圖6—7上可以看到電解蝕刻需要有專用的電解設備、電源系統(tǒng)及配電設施，在實際操作時，還要有掛具和裝卸作業(yè)等。

蝕刻機、金屬蝕刻機、金屬腐蝕機應用范圍:

適用于、金屬標牌，薄板金屬電子零部件（如手機金屬按鍵面板、金屬網(wǎng)片、精密過濾網(wǎng)等）加工制造。蝕刻精度：根據(jù)制版而定 制版0.2微米

蝕刻機（金屬蝕刻機、腐蝕機）特點：

1、采用傳動裝置，霧化噴淋，結(jié)構合理；加工尺寸長度不限制，速度快、精度高；

2、使用方便：有效地設計噴淋與被蝕刻金屬板的有效面積和蝕刻均勻程度；蝕刻效果、速度和操作者的環(huán)境及方便程度等方面都有改善；藥液使用充分，大大降低生產(chǎn)成本；

3、蝕刻速度在傳統(tǒng)蝕刻法上大大提高：經(jīng)反復實驗噴射壓力在1-2 kg/cm2的情況下被蝕刻工件上所殘留的蝕刻圬漬能被有效清處掉

4、可根據(jù)客戶要求，有針對的定制非標尺寸和性能：如搖擺式、窗式、抽拉式、轉(zhuǎn)盤式、曲面式、傾斜面式、冷卻（空調(diào)冷卻或加水循環(huán)冷卻）等

5、可組配蝕刻線：顯影機、蝕刻機、退膜機

6、批量標牌制作流水作業(yè)：配備自動烘干烤箱，自動雙面顯影機，自動上色機，制版機，電鍍機。