由于坩堝是熱重分析中的常用儀器，對(duì)質(zhì)量要求非常精準(zhǔn)，取用坩堝一般要用坩堝鉗;坩堝可以加熱不含水的物質(zhì);坩堝的材料必須耐高溫，陶瓷的坩堝使用的溫度上限約為800度，坩堝可以直接加熱，或者放進(jìn)高溫加熱爐中加熱；熱穩(wěn)定性:針對(duì)石墨坩堝急熱急冷的使用條件,進(jìn)行特別設(shè)計(jì)以保證產(chǎn)品質(zhì)量的可靠性。下面說說高純氧化鋁坩堝、剛玉瓷坩堝特點(diǎn)：

99氧化鋁瓷材料用于制作高溫坩堝、耐火爐管及特殊耐磨材料，如陶瓷軸承、陶瓷密封件及水閥片等，用作耐腐蝕、耐磨部件。

1.高純度氧化鋁，氧化鋁含量大于99%

2.耐化學(xué)腐蝕

3.耐高溫，正常使用在1600℃，短期1800℃

4.耐驟冷驟熱，不易炸裂

5.采用注漿成型，密度高

坩堝使用注意事項(xiàng)：

注意不要給機(jī)械帶來外力撞擊，更不要從高處落下或撞擊。不能夠被水淋濕，這種石墨坩堝需要保存在干燥的地方。在筑熔干燥后不能使其接觸到水。使用期間不能夠?qū)⒒鹧娴戎苯訉?duì)準(zhǔn)坩堝，如果噴到，坩堝底部會(huì)出現(xiàn)明顯的黑色痕跡。在停止使用之后要將剩余的材料盡量取出，坩堝內(nèi)不能留有殘液。像是除渣劑等在使用中要適量，防止侵蝕坩堝，過量使用會(huì)導(dǎo)致坩堝發(fā)生裂。坩堝噴涂是利用不同于其它噴涂技術(shù)和方法，坩堝噴涂是涂裝坩堝通過加熱使其液態(tài)混合物（氮化硅）迅速附著在坩堝表面。

坩堝的使用注意事項(xiàng)：

1、坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種。用電弧法制的半透明坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今，世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國家已用此坩堝取代了小的透明坩堝。他具有高純度、耐溫性強(qiáng)、尺寸大精度高、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)模集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。

2、石英質(zhì)脆，易破，使用時(shí)要注意。

3、除HF外，普通稀無機(jī)酸可用作清洗液。國內(nèi)常用拉制單晶硅用石英坩堝18英寸和20英寸也有廠家使用22及以上的坩堝。目前國內(nèi)坩堝生產(chǎn)廠家生產(chǎn)的18和20英寸坩堝技術(shù)都比較成熟。其生產(chǎn)使用原料石英砂主要由美國進(jìn)口。國內(nèi)產(chǎn)的石英砂純度都達(dá)不到其要求。其原料里雜質(zhì)在生產(chǎn)時(shí)高溫熔制過程中產(chǎn)生黑點(diǎn)氣泡等 對(duì)拉制單晶硅時(shí)其穩(wěn)定性都有一定影響。該涂層與基體的結(jié)合主要以化學(xué)結(jié)合為主，兼有機(jī)械結(jié)合，聯(lián)合強(qiáng)度高。

4、不能和HF接觸，高溫時(shí)，極易和苛性堿及堿金屬的碳酸鹽作用。