面板大王”申請(qǐng)發(fā)明專(zhuān)利4000余件

2014年，為改寫(xiě)我國(guó)“缺芯少屏”格局，TCL華星光電第6代低溫多晶硅（LTPS）面板生產(chǎn)線在光谷動(dòng)建。至今，武漢華星光電累計(jì)申請(qǐng)發(fā)明專(zhuān)利已達(dá)4432件。

鮮為人知的是，華星光電這個(gè)“專(zhuān)利大王”是被市場(chǎng)逼出來(lái)的。

武漢華星光電的母公司深圳華星光電，2009年進(jìn)入顯示面板領(lǐng)域時(shí)，曾先后遭遇技術(shù)的封和價(jià)格打壓。

因此，武漢華星在量產(chǎn)前，必須先構(gòu)建知識(shí)產(chǎn)權(quán)防御體系，一有新成果，立刻申請(qǐng)專(zhuān)利保護(hù)。

為把創(chuàng)新話語(yǔ)權(quán)掌握在自己手里，武漢華星光電在光谷成立了全球小尺寸顯示屏研發(fā)和制造中心，從國(guó)內(nèi)外吸引了2500多名技術(shù)及管理類(lèi)人才，投入自主研發(fā)。基于貫穿產(chǎn)品設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)、生產(chǎn)制造、市場(chǎng)營(yíng)銷(xiāo)等全周期的知識(shí)產(chǎn)權(quán)防御體系，武漢華星光電相繼研發(fā)了Fine　Pixel、IEST、CPLP、Nice　Blue等獨(dú)特的不錯(cuò)的技術(shù)，并開(kāi)展有關(guān) LTPS-LCD及AMOLED前端技術(shù)、光學(xué)技術(shù)、機(jī)構(gòu)技術(shù)、電子技術(shù)的核心技術(shù)研究。

目前，華星光電在光谷投資已達(dá)510多億元。其中，投資160億元的t3項(xiàng)目主要生產(chǎn)第6代LTPS　LCD顯示面板，投資350億元的t4項(xiàng)目主要生產(chǎn)第6代柔性LTPS　AMOLED顯示面板，是當(dāng)前國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)激烈的技術(shù)領(lǐng)域之一。其國(guó)內(nèi)條主攻折疊屏的6代柔性LTPS-AMOLED顯示面板生產(chǎn)線t4項(xiàng)目，已處于設(shè)備調(diào)試階段，預(yù)計(jì)年內(nèi)投產(chǎn)。

在當(dāng)前“大眾創(chuàng)業(yè)與創(chuàng)新”的浪潮下，科技力量的創(chuàng)新已成為世界關(guān)注的焦點(diǎn)。 IT行業(yè)巨頭之間的專(zhuān)利戰(zhàn)已經(jīng)接踵而至，似乎專(zhuān)利已經(jīng)贏得了世界。因此，企業(yè)需要加強(qiáng)其專(zhuān)利管理。中國(guó)《專(zhuān)利法》自1984年頒布以來(lái)，中國(guó)的專(zhuān)利申請(qǐng)數(shù)量一直在增加。 2005年左右，中國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)量每年都在急劇增加。因此，中國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局已成為全球五大知識(shí)產(chǎn)權(quán)局之一。他們是中國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局，美國(guó)專(zhuān)利商標(biāo)局，日本專(zhuān)利局，韓國(guó)專(zhuān)利局和歐洲專(zhuān)利局。專(zhuān)利申請(qǐng)的過(guò)程和價(jià)格要求？專(zhuān)利申請(qǐng)是發(fā)明人，設(shè)計(jì)者或其他主體的請(qǐng)求，其有權(quán)向?qū)＠稚暾?qǐng)獲得發(fā)明或設(shè)計(jì)的專(zhuān)利。根據(jù)中國(guó)專(zhuān)利法的規(guī)定，專(zhuān)利申請(qǐng)應(yīng)向?qū)＠痔峤簧暾?qǐng)，說(shuō)明書(shū)，權(quán)利要求，摘要，圖紙和優(yōu)先權(quán)要求。

可專(zhuān)利性檢索一般步驟為：

（1）在全球范圍內(nèi)檢索所有公開(kāi)出版物，通過(guò)閱讀專(zhuān)利標(biāo)題、摘要，確定與檢索主題的相關(guān)程度，找到相近的發(fā)明創(chuàng)造技術(shù)文獻(xiàn)。對(duì)于密切相關(guān)的專(zhuān)利文獻(xiàn)，要閱讀專(zhuān)利全文。（2）經(jīng)過(guò)篩選后的對(duì)比專(zhuān)利，與查新的技術(shù)點(diǎn)進(jìn)行對(duì)比分析。確定對(duì)比文獻(xiàn)是否可以影響到查新技術(shù)的新穎性，若不影響新穎性，則要對(duì)查新技術(shù)的創(chuàng)造性進(jìn)行檢索。對(duì)于專(zhuān)利查新的檢索結(jié)果分析部分，對(duì)比文獻(xiàn)的相關(guān)度，可以參考世界專(zhuān)利合作條約組織（PCT）和歐洲專(zhuān)利局（EPO）的檢索報(bào)告以及國(guó)家的知識(shí)產(chǎn)權(quán)局的專(zhuān)業(yè)人員出具的檢索報(bào)告，文獻(xiàn)對(duì)比分析部分可以借鑒專(zhuān)利對(duì)比文獻(xiàn)相關(guān)度的表示符號(hào)，X：?jiǎn)为?dú)影響權(quán)利要求新穎性的文件，Y：與檢索報(bào)告中其他Y類(lèi)文件組合影響權(quán)利要求創(chuàng)造性的文件；A：背景技術(shù)文件，即反應(yīng)權(quán)利要求的部分技術(shù)特征或者現(xiàn)有技術(shù)一部分的文件；E：?jiǎn)为?dú)影響權(quán)利要求新穎性的抵觸申請(qǐng)文件。