隨著我國工業(yè)的發(fā)展和改革開放的不斷深入，主要跨國氣體公司都紛紛進入中國，美國空氣化工、法國液化空氣、德國林德、普萊克斯、日本大陽日酸、日商巖谷氣體公司等已占領(lǐng)我國部分特氣市場，尤其是電子氣體市場，合資和獨資的半導體集成電路企業(yè)生產(chǎn)工藝中所使用的電子氣體被這些國外氣體公司所壟斷，這與半導體集成電路對氣體質(zhì)量、供應(yīng)的特殊要求有關(guān)。

特種氣體在LED中的應(yīng)用

特種氣體是光電子、微電子等領(lǐng)域，特別是在超大的規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池、半導體發(fā)光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)指標和成品率，并且從根本上制約著電路和器件的性和準確性。

半導體工業(yè)用氣體品種多、質(zhì)量要求高、用量少，大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種高達百余種。半導體工業(yè)特種氣體應(yīng)用分類，主要包括：

1. 硅族氣體：含硅基的類，如、二氯二氫硅、乙等。

2. 摻雜氣體：含硼、磷、等三族及五族原子之氣體，如三氯化硼、三、磷烷、烷等。

3. 蝕刻清洗氣體：以含鹵化物及鹵碳化合物為主，如、三氟化氮、、四氟化碳、六等。

4. 反應(yīng)氣體：以碳系及氮系氧化物為主，如二氧化碳、氨、氧化亞氮等。

5. 金屬氣相沉積氣體：含鹵化金屬及有機烷類金屬，如六氟化鎢、基等。

隨著微電子工業(yè)的不斷發(fā)展,特別是超大規(guī)模集成電路制造的晶圓尺寸不斷增大,線寬尺寸從微米級進人到亞微米(小于1um)級以及深亞微米(小于0.18um)級,這樣,對半導體制造工藝中的超凈氣體的品質(zhì)要求越來越高,對這些氣體中微粒、雜質(zhì)及控制要求極為嚴格,已達到ppb、ppt級,塵埃粒徑要求控制小于0.1um的微粒,因此對超凈氣體的輸送管路系統(tǒng)的潔凈度提出了非常高的要求。特種氣體指出，工藝氣體中的雜質(zhì)對半導體制造的整個過程都有影響。如高溫處理中,重金屬微粒向硅的內(nèi)部侵人擴散,誘發(fā)結(jié)晶缺陷,是導致半導體器件特性裂化的原因。腐蝕工序中,由于微粒附著在硅片處,將導致接觸部分和周圍的腐蝕加工精度降低。

熱處理工序中,堿金屬微粒使氧化膜與硅的界面特性產(chǎn)生異常，引起耐壓性差或電氣特性劣化。特種氣體指出，由于一旦該氣體輸送管道發(fā)生污染,將很難通過吹掃清除污染物,往往是更換掉被污染的管路,由于該系統(tǒng)造價昂貴,這樣造成的損失將很大,因此,超凈氣體管道系統(tǒng)潔凈度的要求甚至比對其純度的要求在某種程度上顯得更為重要。