鋁材陽(yáng)極氧化染色對(duì)氧化膜的要求

因?yàn)槿旧窃阡X陽(yáng)極氧化膜的膜孔中進(jìn)行的，一方面要求膜層具有足夠的孔隙率，另一方面要求膜孔內(nèi)壁保持一定的活性，所以不是所有的陽(yáng)極氧化膜都能染上合適的顏色，必須具備下列條件。

1、鋁在硫酸溶液中得到的陽(yáng)極氧化膜無(wú)色而多孔，因此適宜于染色。但是采用交流電陽(yáng)極氧化時(shí)，常常會(huì)發(fā)生如下反應(yīng)：

因?yàn)槟又泻辛颍m然也很容易染色，但因染料與膜層中的硫生成硫化物，所以即使在同一種染色液中，直流與交流處理獲得的陽(yáng)極氧化膜色調(diào)往往不一樣。因此在陽(yáng)極氧化時(shí)必須選擇合適的工藝和操作條件，以獲得質(zhì)量良好的膜層。

其他陽(yáng)極氧化膜如草酸氧化膜本身呈現(xiàn)黃色，只能染深色。在35 ℃下氧化，獲得了幾乎無(wú)色的膜，可很好地作為染色的底層。鉻酸氧化膜層一般也不適于染色，因?yàn)槟け《铱紫堵实?，另一方面膜層顏色發(fā)灰，也只能染深色。

2、氧化膜層應(yīng)完整、均勻，不應(yīng)有劃傷、砂眼、點(diǎn)腐蝕等缺陷。

3、氧化膜應(yīng)有一定的松孔和吸附性

鋁型材陽(yáng)極氧化理論解析

陽(yáng)極氧化時(shí)陽(yáng)極反應(yīng)，由于電解質(zhì)是強(qiáng)酸性的：陽(yáng)極電位較高，因此陽(yáng)極反應(yīng)首先是水的電解，產(chǎn)生初生態(tài)的 [O] ，氧原子立即在陽(yáng)極對(duì)鋁件表面發(fā)生化學(xué)級(jí)化反應(yīng)，生成氧化鋁，即薄而致密的陽(yáng)極氧化膜。這一過(guò)程與初始電壓、電流密度的大小有密切關(guān)系。

生成的氧化膜在酸性一電解液中，產(chǎn)生化學(xué)溶解作用。部分氧化膜在電解液中的溶解又是必須的，否則由于膜的電絕緣性，將阻止電流的繼續(xù)通過(guò)而影響級(jí)化膜的繼續(xù)生成。

陰極反應(yīng)：陰極只是起導(dǎo)電作用和析氫反應(yīng)，當(dāng)鋁合金的其他合金元素在陽(yáng)極過(guò)程中溶解后，有可能在陰極上沉積析出。

氧化膜的成長(zhǎng)過(guò)程包含著相輔相成的兩個(gè)方面：

1、膜的電化學(xué)生成過(guò)程。

2、膜的化學(xué)溶解過(guò)程。

兩者缺一不可，而且必須使膜層的生成速度恒大于溶解速度，這樣才能獲得較厚的氧化膜。為此，所選擇的電解液性質(zhì)及工藝規(guī)范都必須具備這些條件。

在陽(yáng)極氧化過(guò)程中，由于電位差的作用，帶電質(zhì)點(diǎn)相對(duì)于固體壁發(fā)生電滲液流。電滲液流的存在，是陽(yáng)極氧化膜得以增長(zhǎng)的一個(gè)必要條件。

?硬質(zhì)陽(yáng)極氧化與普通陽(yáng)極氧化的區(qū)別

一、鋁合金硬質(zhì)氧化的優(yōu)勢(shì)： 1、合金硬質(zhì)氧化后表面硬度可達(dá)HV500左右。 2、氧化膜厚度25-250um。 3、附著力強(qiáng)，根據(jù)硬質(zhì)氧化所生成的氧化特點(diǎn)：所生成的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面（雙向生長(zhǎng)）。 4、絕緣性好：擊穿電壓可達(dá)2000V（完善的封孔）。 5、耐磨性能好：對(duì)于含銅量未超過(guò)2%的鋁合金其磨耗指數(shù)為3.5mg/1000轉(zhuǎn)。其他所有的合金磨耗指數(shù)不應(yīng)超過(guò)1.5mg/1000轉(zhuǎn)。 6、無(wú)毒：氧化膜和用來(lái)生產(chǎn)陽(yáng)極氧化膜的電化學(xué)工藝應(yīng)對(duì)人體無(wú)害。 因此很多行業(yè)為了減輕產(chǎn)品的重量、機(jī)械加工的方便、環(huán)保低毒等要求，目前有的部分產(chǎn)品中的部份零部件由鋁合金硬質(zhì)氧化來(lái)代替不銹鋼、電鍍硬鉻等工藝。

二、硬質(zhì)陽(yáng)極氧化和普通陽(yáng)極氧化的區(qū)別： 硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內(nèi)孔變小。 （一）操作條件方面的差異： 1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過(guò)高易出現(xiàn)粉末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對(duì)來(lái)說(shuō)溫度越低硬質(zhì)越高。 2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。 3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.5-5A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時(shí)高達(dá)120V。 （二）膜層性能方面的差異： 1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對(duì)較??；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過(guò)低達(dá)不到硬度≥300HV的要求。 2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。 3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。 4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。 5、適用場(chǎng)合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場(chǎng)合。