大塚電子（蘇州）有限公司主要銷售用于光學特性評價?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車前燈等的光源?照明產(chǎn)業(yè)以及液晶顯示器、有機EL顯示器等平板顯示產(chǎn)業(yè)以及其相 關(guān)材料的光學特性評價?檢查。歡迎新老客戶來電咨詢！

測量示例：

SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚測量

半導體晶體管通過控制電流的導通狀態(tài)來發(fā)送信號，但是為了防止電流泄漏和另一個晶體管的電流流過任意路徑，有必要隔離晶體管，埋入絕緣膜。 SiO 2（二氧化硅）或SiN（氮化硅）可用于絕緣膜。 SiO 2用作絕緣膜，而SiN用作具有比SiO 2更高的介電常數(shù)的絕緣膜，或是作為通過CMP去除SiO 2的不必要的阻擋層。之后SiN也被去除。 為了絕緣膜的性能和精準的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。



 

使用顯微光譜法在微小區(qū)域內(nèi)通過絕i對反射率進行測量，可進行高i精度膜厚度/光學常數(shù)分析。

可通過非破壞性和非接觸方式測量涂膜的厚度，例如各種膜、晶片、光學材料和多層膜。 測量時間上，能達到1秒/點的高速測量，并且搭載了即使是初次使用的用戶，也可容易出分析光學常數(shù)的軟件

為了確保膜厚儀的安全操作，必須注意以下幾點：　　·始終按照操作手冊的要求操作膜厚儀；　　·不要損壞安全互鎖系統(tǒng)的任何元件，例如微動開關(guān)等等；　　·不要對膜厚儀做任何改變。

考慮到表面粗糙度測量的膜厚值[FE-0007]

當樣品表面存在粗糙度（粗糙度）時，將表面粗糙度和空氣（air）及膜厚材料以1：1的比例混合,模擬為“粗糙層”，可以分析粗糙度和膜厚度。此處示例了測量表面粗糙度為幾nm的SiN（氮化硅）的情況。