一、適用范圍：該系列產(chǎn)品配套于平面研磨機(jī)、拋光機(jī)用盤。合成銅盤也稱樹脂銅盤，它適用于陶瓷、藍(lán)寶石、水晶、單晶硅片、光學(xué)玻璃、不銹鋼、模具鋼、鋁等金屬材料及非金屬材料的研磨；一般用于中磨及精磨等工藝。

　　二、適用設(shè)備：廣泛適用于進(jìn)口（英格斯、科密特、NTS、創(chuàng)技、凱勒斯等設(shè)備）及國產(chǎn)平面研磨設(shè)備。

三、常用尺寸(外徑)：380mm、460mm、610mm、810mm、910mm、1270mm

　　四、基體（底座）厚度：30-45mm；基體材質(zhì)一般選用：304不銹鋼或者6001國標(biāo)鋁。

粗研的壓力不超過 0.3兆帕﹐精研壓力一般采用0.03～0.05兆帕。粗研速度一般為20～120米/分﹐精研速度一般取10～30米/分。

互相配合的工件常采用配研方法

　　　 ①濕研：又稱敷砂研磨，把液態(tài)研磨劑連續(xù)加注或涂敷在研磨表面，磨料在工件與研具間不斷滑動(dòng)和滾動(dòng)，形成切削運(yùn)動(dòng)。濕研一般用于粗研磨，所用微粉磨料粒度粗于W7。

　

     光亮劑是專為各類研磨機(jī)、震光機(jī)、高速離心機(jī)、渦流機(jī)、滾筒、各類光飾機(jī)拋光各種材質(zhì)加工，配合各種研磨石、、拋光、軟化工件表面以加速磨削，減少研磨石對(duì)工件的碰傷，使工件表面達(dá)到理想光澤度，對(duì)鋁合金、鋁制品表面拋光有顯著效果。      光亮劑可去除工件表面的披鋒、毛刺、氧化皮、油污等，且能提高產(chǎn)品表面的精光度，而且不會(huì)對(duì)產(chǎn)品及環(huán)境造成污染，可放心使用。