電池片的檢驗(yàn)

振鑫焱光伏科技有限責(zé)任公司長(zhǎng)期購(gòu)置：天價(jià)回收硅片，電池片，初中級(jí)多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽(yáng)電池，太陽(yáng)能組件，太陽(yáng)能光伏板，顧客撤離，退級(jí)，庫(kù)存量，El，欠佳檢測(cè)，2手，舊，工程項(xiàng)目，拆裝，道路路燈，拆卸發(fā)電廠，拆裝，人造板，層壓板，無(wú)界限結(jié)晶硅，多晶硅，單晶硅，試驗(yàn)板，負(fù)債還款，返修，太陽(yáng)能發(fā)電控制模塊收購(gòu)等。 

電池片的檢測(cè) 

一、檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)

1．高于800LX的直射下，間距電池片30-50cm的間距，看著方位垂直平分電池片表層觀查。 

二、檢測(cè)的方式 1、取放電池片時(shí)要輕拿小心輕放，125的電池片維持在1-2的檢驗(yàn)速率，150及156的電池片要一整片一整片的開(kāi)展查驗(yàn)。 

三、檢驗(yàn)新項(xiàng)目1．色調(diào)偏色2．絨面色素斑3．亮斑4．裂痕、裂縫及破孔5．彎折的6．崩邊、豁口、掉角7．印刷偏位8．TTV9．鋁珠、鋁苞10．包裝印刷圖型11．跑模12．尺寸

電池片的制作工藝

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購(gòu)：高價(jià)回收硅片，電池片，初級(jí)多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽(yáng)能電池，光伏組件，太陽(yáng)能電池板，客戶撤退，降級(jí)，庫(kù)存，El，不良測(cè)試，二手，舊，工程，拆卸，路燈，拆解電站，拆卸，膠合板，層壓板，無(wú)邊界晶體硅，多晶硅，單晶硅，實(shí)驗(yàn)板，債務(wù)償還，返工，光伏模塊回收等。

絲網(wǎng)印刷

基本原理

基本原理：利用網(wǎng)版圖文部分網(wǎng)孔透墨，非圖文部分網(wǎng)孔不透墨的基本原理進(jìn)行印刷。印刷時(shí)在網(wǎng)版上加入漿料，刮膠對(duì)網(wǎng)版施加一定壓力，同時(shí)朝網(wǎng)版另一端移動(dòng)。漿料在移動(dòng)中從網(wǎng)孔中擠壓到承印物上，由于粘性作用而固著在一定范圍之內(nèi)。由于網(wǎng)版與承印物之間保持一定的間隙，網(wǎng)版通過(guò)自身的張力產(chǎn)生對(duì)刮膠的回彈力，使網(wǎng)版與承印物只呈移動(dòng)式線接觸，而其它部分與承印物為脫離狀態(tài)，漿料與絲網(wǎng)發(fā)生斷裂運(yùn)動(dòng)，保證了印刷尺寸精度。刮膠刮過(guò)整個(gè)版面后抬起，同時(shí)網(wǎng)版也抬起，并通過(guò)回墨刀將漿料輕刮回初始位置，完成一個(gè)印刷行程。

絲網(wǎng)結(jié)構(gòu)

網(wǎng)版，刮膠，漿料，印刷臺(tái)，承印物

漿料體系

銀鋁漿：背面導(dǎo)體，作為背電極，提供可焊性。

鋁漿：背面導(dǎo)體，作為背面電場(chǎng)，收集電流。

銀漿：正面導(dǎo)體，作為正電極，收集電荷。

電池片區(qū)別

電池片差別 

太陽(yáng)電池開(kāi)始面世的是單晶硅太陽(yáng)電池。硅是宇宙上極豐富多彩的這種原素，基本上滿地常有硅的存有，百口莫辯取之不竭，用硅來(lái)生產(chǎn)制造太陽(yáng)電池，原材料可以說(shuō)不缺?？墒翘釤挸鏊鼌s不易，因此大家在生產(chǎn)制造單晶硅太陽(yáng)電池的一起，又科學(xué)研究了多晶硅太陽(yáng)電池和非晶硅太陽(yáng)電池，迄今商業(yè)服務(wù)經(jīng)營(yíng)規(guī)模生產(chǎn)制造的太陽(yáng)電池，都還沒(méi)跳出來(lái)硅的系列產(chǎn)品。我覺(jué)得能夠生產(chǎn)制造太陽(yáng)電池的半導(dǎo)體器件許多，隨之原材料工業(yè)生產(chǎn)的發(fā)展趨勢(shì)、太陽(yáng)電池的種類將很多?，F(xiàn)階段已開(kāi)展科學(xué)研究和研發(fā)的太陽(yáng)電池，除硅系列產(chǎn)品外，也有硫化鎘、砷化鎵、銅銦硒等很多種類的太陽(yáng)電池，不勝枚舉，下列詳細(xì)介紹幾類較普遍的太陽(yáng)電池。歸類單晶硅太陽(yáng)電池。

電池片流程

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電池片流程

1、   車間段位構(gòu)成

WHQ ：硅片為太陽(yáng)能電池片的載體，硅片的質(zhì)量決定了電池片的轉(zhuǎn)換效率。而該工序則是對(duì)硅片的來(lái)料檢測(cè)，主要是包括厚度， TTV ，電阻率，外觀 （破片，缺角，孔洞，臟污）

需注意 :

1)   切割方向會(huì)厚薄不均，放片時(shí)需 180 度錯(cuò)落放置以保證放入載體厚薄均勻，切割方向需要垂直與印刷 細(xì) 柵方向，預(yù)防水波紋出現(xiàn)。

2)   線痕：   單線痕

密集線痕

3 ）原硅片因切割后因有清洗所以會(huì)有粘度導(dǎo)致原硅片粘連，放置時(shí)需輕微搖晃。

制絨： 目的：去除表面損傷層，對(duì)表面進(jìn)行凹凸處理 ，清楚表面硅酸鈉，氧化物，油污以及金屬。以提高光電轉(zhuǎn)換率。

減重 ，活性不均勻會(huì)影響到后面 PEVCD 工序使硅片出現(xiàn)問(wèn)題制絨過(guò)程中， 制絨面朝下，裝入載體，載體單孔面為制絨面。在制品時(shí)間為兩小時(shí)，兩小時(shí)內(nèi)要及時(shí)送入下一工序。