AF防指紋真空鍍膜機防指紋處理的工藝流程：

（1）使用弱堿性清洗劑或溶劑去除基材表面油分、水分等污跡，通過超聲波清洗效果更好;（2）將AF藥液鍍在產(chǎn)品表面成膜;（3）烘烤：噴涂后取出玻璃，放入烤箱（120度，30分鐘），視具體要求及產(chǎn)品情況調(diào)整至良好;（4）清潔：產(chǎn)品清潔后，成品包裝。

AF防指紋真空鍍膜機特點和應(yīng)用領(lǐng)域:

（1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；（2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；（3）膜層薄：優(yōu)異光學(xué)性能、不改變原有的紋理；（4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF防指紋真空鍍膜機的品質(zhì)：

（1）擦傷測試及水滴角指標：（2）初始水滴角115-120度，（3）擦傷測試（#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、（4）摩擦次數(shù)2000次）后，水滴角108-116度。（5）表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例，9HMax.鉛筆硬度。

光學(xué)鍍膜機的鍍膜工藝原理

光學(xué)鍍膜工藝，已經(jīng)普及到各行各業(yè)，光學(xué)薄膜在我們的生活中無處不在，更是被大眾高度認可，據(jù)統(tǒng)計目前光學(xué)鍍膜機材料常用品種已達60余種，而且其品種、應(yīng)用功能還在不斷被開發(fā)。光學(xué)鍍膜工藝直接影響這大家的生活習(xí)慣，已是人們生活中不可或缺的一部分。

從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用廣泛，和生活息息相關(guān)，比喻平時戴的眼鏡、各式家電用品，數(shù)碼相機，或者是上的防偽技術(shù)，皆能被稱之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。光學(xué)薄膜的生產(chǎn)方式主要分為干法和濕法的生產(chǎn)工，干式就是沒有液體出現(xiàn)在整個加工過程中，例如真空蒸鍍是在一真空環(huán)境中，以電能加熱固體原物料，經(jīng)升華成氣體后附著在一個固體基材的表面上，完成涂布加工。在實際量產(chǎn)的考慮下，干式涂布運用的范圍小于濕式涂布。濕式涂布一般的做法是把具有各種功能的成分混合成液態(tài)涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液態(tài)涂料干燥固化做成產(chǎn)品。倘若沒有光學(xué)薄膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ)，近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無法有所進展，這也顯示出光學(xué)薄膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。

包裝卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCPAK系列卷繞鍍膜設(shè)備是用于鋁屏障包裝應(yīng)用的卷對卷金屬化解決方案。在利潤率較低的行業(yè)中，的生產(chǎn)效率，再加上的產(chǎn)品性能，是應(yīng)對未來挑戰(zhàn)的。

通過將傳統(tǒng)的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強光學(xué)、保護和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100～3850mm的寬幅，以及所有常見的塑料薄膜和紙張基材，針對2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實現(xiàn)輸出，比傳統(tǒng)系統(tǒng)提高25%以上的處理速度。

特點：高正常運行時間，因為一個強大和服務(wù)友好的機器概念由于強大的等離子預(yù)處理，產(chǎn)品一致性高，阻隔性能提高由于鋁蒸發(fā)器源的優(yōu)化配置，在層均勻性方面具有的產(chǎn)品質(zhì)量簡化操作和優(yōu)化設(shè)計，便于操作的設(shè)備卷繞系統(tǒng)的設(shè)計概念使卷繞路徑能夠靈活地適應(yīng)基板和應(yīng)用的個別要求。由于穩(wěn)健的機器設(shè)計，正常運行時間很長

減少真空鍍膜機中灰塵的方法

如今真空鍍膜機鍍膜技術(shù)在生活中隨處可見，但真空鍍膜機在日常使用中，經(jīng)常累積上一層灰塵，這影響到后期鍍膜的整體效果，那么日常有哪些方法能減少真空鍍膜機中的灰塵呢？由于灰塵對鍍膜效果會產(chǎn)生比較大的影響，因此未來避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用過程中注意以下幾點來盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

（1）真空鍍膜機一段時間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理；

（2）真空鍍膜適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物；

（3）工作人員在操作時需要戴手套、鞋套等，要有規(guī)范的服裝，以保證平時工作中的清潔；

（4）真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求；

（5）設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題；

（6）設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求；