放she自顯影的原理是什么：在應(yīng)用這技術(shù)時先把含有放she性同位素的化合物引入生物體內(nèi)，經(jīng)過定時間后，將其組織取下，制成切片或涂片，然后將其與照相乳膠相接觸。由于放she性元素所產(chǎn)生的α粒子和β粒子能和可見光對照相乳膠發(fā)生作用，用普通照相技術(shù)進(jìn)行顯影和定影，即可得到放she性同位素的正確位置。并根據(jù)放she性元素對乳膠作用的黑化程度，即乳膠上黑色銀粒的數(shù)量，測出物質(zhì)的含量。在自顯影中，常用的同位素有氫碳磷硫碘碘等。

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曝光顯影工藝就是指利用物質(zhì)這一特點(diǎn)，由高精度紫外平行光源通過掩膜版對涂有特定吸收波長的油墨進(jìn)行紫外光照射，然后通過化學(xué)去除多余涂層，從而達(dá)到圖形轉(zhuǎn)印的過程稱之為曝光顯影工藝。

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曝光顯影提高板與板之間蝕刻速率的一致性在連續(xù)板蝕刻中，蝕刻速率越大，獲得的蝕刻板越均勻。為了滿足該要求，必須確保在整個蝕刻過程中蝕刻溶液始終保持佳蝕刻狀態(tài)。

曝光顯影這可通過控制溶解的銅量，pH值，溶液濃度，溫度和溶液流量（噴霧系統(tǒng)或噴嘴和噴嘴擺動）的均勻性來實現(xiàn)。