模具是輪胎生產過程中一種的機械設備，模具的好壞直接影響到輪胎的質量。輪胎的模具中都有花紋和標志圖案，這些都是比較細膩的雕刻工藝。但模具是在高壓、高溫的條件下反復使用的，不可避免地受到橡膠、配合劑以及硫化過程中所使用的脫模劑的綜合沉積污染(主要污染物是硫化物、無機氧化物、硅油、炭黑等)，花紋、溝槽等處很容易積存橡膠和殘留物，積累到一定程度時會影響輪胎的表面形狀，從而使產品成為次品或廢品，所以必須經常性地清洗模具以保證其表面的潔凈度，才能保證輪胎的質量以及模具的壽命。

另一方面，每年全世界生產制造的輪胎達上億個，生產過程中輪胎模具的清洗必須迅速可靠，以節(jié)省停機的時間。傳統(tǒng)的化學清洗劑清洗法、高壓水清洗法、干冰法等均存勞動強度大、效率低下、 安全系數(shù)低、成本高等弊病，所以，輪胎制造行業(yè)迫切需要一種、低成本、的清洗技術。激光清洗技術具有、低成本、且對模具無損等顯著優(yōu)勢。同時可以實現(xiàn)在線清洗作業(yè)，并對操作者有。相對于傳統(tǒng)清洗方法，利用激光清洗極大地提高了清洗質量和清洗效率，解決了傳統(tǒng)清洗方法存在的問題，并完全能夠滿足輪胎清洗必須迅速可靠的要求。

當前，隨著半導體技術不斷縮進，先進的集成電路器件已從平面向三維結構轉變，集成電路制造工藝正變得越來越復雜，往往需要經過幾百甚至上千道的工藝步驟。對于先進的半導體器件制造，每經過一道工藝，硅片表面都會或多或少地存在顆粒污染物、金屬殘留或有機物殘留等，器件特征尺寸的不斷縮小和三維器件結構的日益復雜性，使得半導體器件對顆粒污染、雜質濃度和數(shù)量越來越敏感。對硅晶元上掩模表面的污染微粒的清洗技術提出了更高的要求，其關鍵點在于克服污染微顆粒與基材之間極大的吸附力，傳統(tǒng)的化學清洗、機械清洗、超聲清洗方法均無法滿足需求，而激光清洗可以很容易解決此類污染問題。

另外，隨著集成電路器件尺寸持續(xù)縮小，清洗工藝過程中的材料損失和表面粗糙度成為必須關注的問題，將微粒去除而又沒有材料損失和圖形損傷是基本的要求，激光清洗技術具有非接觸性、無熱效應，不會對被清洗物體產生表面損壞，且不會產生二次污染等傳統(tǒng)清洗方法所無法比擬的優(yōu)勢，是解決半導體器件污染的清洗方法。

精密機械工業(yè)中的準確去酯清洗：精密機械工業(yè)常常需對零件上用來潤滑和抗腐蝕的酯類及礦物油加以清除，通常是用化學方法，而化學清洗往往仍有殘留物。激光去酯可以將酯類及礦物油完全去除，不損傷零件表面。其污染物去除是由沖擊波完成，零件表面氧化物薄層爆1炸性氣化形成了沖擊波，導致污物去除，而非機械互作用。材料去酯用于航天工業(yè)機械零件的清理。機械零件加工中的油酯去除同樣可采用激光清洗。

核1電站反應堆內管道清洗：激光清洗系統(tǒng)還應用于核1電站反應堆內管道的清洗。它采用光導纖維，將高功率激光束引入反應堆內部，直接清除放1射性粉塵，清洗下來的物質清理方便。而且由于是遠距離操作，可以確保工作人員的安全。