光刻膠國內研發(fā)現狀

“造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產業(yè)上，布局不合理、不完整，特別是生產加工環(huán)節(jié)的投資，而忽視了重要的基礎材料、裝備與應用研究。目前，整個產業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強，前后兩端弱，核心技術至今被TOK、JSR、住友化學、信越化學等日本企業(yè)所壟斷。三、光刻膠涂覆（PhotoresistCoating）光刻膠涂覆通常的步驟是在涂光刻膠之前，先在900-1100度濕氧化。

光刻膠的主要技術指標有解析度、顯影時間、異物數量、附著力、阻抗等。每一項技術指標都很重要，必須全部指標達到才能使用。因此，國外企業(yè)在配方、生產工藝技術等方面，對中國長期保密。中國的研發(fā)技術有待進一步發(fā)展

PC6-16000

NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢：

- 優(yōu)異的分辨率性能

- 快速地顯影

- 可以通過調節(jié)曝光能量很容易地調節(jié)倒梯形側壁的角度

- 耐受溫度100℃

- 室溫儲存保質期長達3 年

NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR9-6000PY 5.0μm -

12.2μm  

Resist Thickness

NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm

?Futurrex

提供先進化學技術的多樣化解決方案

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客戶：從財富100強到以風險投資為背景的設備研發(fā)及制造公司

使命

目標

提供特殊化學品和全新工藝來增加客戶的產能

策略

提供獨特的產品來優(yōu)化生產制程，以提高設備能效

領的技術提升生產過程中的整體性價比

工藝步驟的減少降低了成本和產生瑕疵的可能

增加客戶的產能和生產的效率

工藝減化

非同尋常的顯微構造、金屬及介電層上的圖形轉換、光刻、平坦化、摻雜、蝕刻、邦定

在生產過程中，不含有害溶劑

支持所有客戶的需要，與客戶共創(chuàng)成功