真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 

周?chē)h(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒(méi)有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。

鍍材范圍廣，由于濺射鍍膜是通過(guò)離子的高速轟擊使鍍材濺射出來(lái)的，當(dāng)然這個(gè)厚度是在可允許的范圍內(nèi)，而且控制好電流，無(wú)論重復(fù)鍍多少次，膜層厚度都不會(huì)變化，膜厚的穩(wěn)定性可歸結(jié)為膜厚良好的可控性和重復(fù)性。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。不像五金電鍍加工由于熔點(diǎn)的原因而限制只能使用熔點(diǎn)比較低的鍍材，而濺射鍍膜固體的物質(zhì)都可以成為鍍材。

高真空離子鍍是常見(jiàn)的塑膠產(chǎn)品電鍍技術(shù)中的目前市場(chǎng)新興興起的一種技術(shù)。?Parylene適用于微機(jī)電(MEMS)、半導(dǎo)體領(lǐng)域之優(yōu)點(diǎn)*能進(jìn)行微米級(jí)微細(xì)制作和加工。高真空離子鍍，又稱(chēng)高真空鍍膜加工。如今高真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種相來(lái)說(shuō)比較盛行的一種做法，做出來(lái)的商品金屬質(zhì)感強(qiáng)，表面亮度高.而相對(duì)別的的鍍膜法來(lái)說(shuō)，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，可選擇原料種類(lèi)多，這也是近年來(lái)一些電鍍加工廠比較推崇的鍍膜電鍍技術(shù)。

Parylene特別適合用于鐵氧體材料(磁環(huán)、磁芯)等電子組件的鍍膜，鍍膜后的電子組件其涂膜附著力強(qiáng)、耐磨性好、硬度高、抗高電壓絕緣性強(qiáng)，漆膜外觀細(xì)膩均勻、柔滑、觸感極 佳。因只有一層膜故透過(guò)串率高，色澤淺較暗淡，一般常見(jiàn)的只有在有色玻璃上鍍膜的綠色、藍(lán)色，且因有色玻璃的批量不同，每批的色澤亦有變化。耐漆包線的繞線性強(qiáng)，漆膜不裂傷。同時(shí)可以增加鐵氧體等磁性材料的介電性及耐高壓性能，可以克服普通環(huán)氧樹(shù)脂噴涂處理后不耐酸、磨等方面的缺陷。Parylene 涂層能在磁性材料表面形成均勻一致的絕緣防護(hù)涂層！