國內外研究人員一直致力于開發(fā)取代電鍍的表面防護技術的研究,物理氣相沉積(PVD)技術作為一種環(huán)境友好技術,具有很多其他技術所不具備的特點,通過控制其工藝參數(shù)可以得到晶粒細小、厚度均勻、膜基結合力優(yōu)異的鍍層;同時由于PVD是一種干法鍍技術,可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質溶液殘留在磁體孔隙內和電鍍過程中磁體吸氫而導致鍍層脆裂的缺點。另外,在PVD施鍍過程中,鍍層厚度受磁體工件邊角的影響遠低于電鍍和化學鍍,且制備過程不存在污染問題。然而，PVD表面處理受批量生產(chǎn)成本和某些因素的限制,現(xiàn)在并沒有大規(guī)模生產(chǎn)應用。

怎么保證真空鍍膜設備鍍膜效果與質量

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。首先，被鍍膜材料表面肯定是有灰塵的，在盡量減小材料表面灰塵的前提下，我們還應當注意以下幾點：

1、真空鍍膜設備使用一段時間后，必須要對設備進行清潔維護；

2、規(guī)范操作人員及操作要求，包括穿戴專業(yè)的服裝、手套、腳套等；

3、嚴格處理襯底材料，做到清潔干凈，合乎工藝要求；

真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。

  中國真空鍍膜機械行業(yè)，經(jīng)過了幾十年發(fā)展，形成了門類齊全、布局合理，品種配套，真空鍍膜技術水平與鍍膜工業(yè)發(fā)展基本適應的體系，真空鍍膜設備已經(jīng)不能再叫新行業(yè)了，其是一個有能力的成熟行業(yè)，鍍膜技術從重污染轉為輕污染直至以后的無污染，是前提，隨著更新型節(jié)能環(huán)保的真空機械設備研發(fā)必將改變整個工業(yè)。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。平常我們還應當注意以下幾點：

2、保證設施設備及操作環(huán)境清潔。如材料、樣品放置地環(huán)境要求，環(huán)境溫度濕度要求等；

3、降低真空鍍膜設備室內空氣流動性低、盡量減小室外灰塵侵入。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。未來發(fā)展策略1、目前實體經(jīng)濟走勢整體疲弱，復蘇充滿不確定性，經(jīng)濟處于繼續(xù)探底過程，真空鍍膜設備制造企業(yè)應著力進行產(chǎn)業(yè)結構優(yōu)化升級，重質量、重服務明確市場定位，大力研發(fā)擁有自主知識產(chǎn)權的新產(chǎn)品新工藝，提高產(chǎn)品質量和服務水平。以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術。能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類。