真空計是真空磁控濺射鍍膜機器上有什么作用

真空計：真空計是真空磁控濺射鍍膜機器上的重要組成部分，它是檢測鍍膜機真空度的重要手段。真空計根據(jù)其工作原理可以分為真空計和相對真空計，真空計可以直接測量壓強的高低，相對真空計只能間接測量真空度。蒸發(fā)系統(tǒng)主要指成膜裝置部分，鍍膜機器的成膜裝置很多，有電阻加熱、電子槍蒸發(fā)、磁控濺射、射頻濺射、離子鍍等多種方式，鄙人就電阻加熱和電子槍蒸發(fā)兩種方式作介紹，因為此兩種方式我應(yīng)用的比較多。電子束蒸發(fā)的大優(yōu)點在于：電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。成膜控制系統(tǒng)，薄膜監(jiān)控目前應(yīng)用方式比較多，主要有：目視監(jiān)控法，定（極值）值監(jiān)控、水晶振蕩監(jiān)控、時間監(jiān)控等等。本人主要介紹目視監(jiān)控、定（極值）監(jiān)控和水晶振蕩監(jiān)控三種。目視監(jiān)控也叫直接監(jiān)控，就是采用眼睛監(jiān)控，因為薄膜在生長的過程中，由于干涉現(xiàn)象會有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗。

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要?

真空鍍膜設(shè)備鍍膜過程的均勻性到底多重要？ 厚度均勻性主要取決于： 1、基片材料與靶材的晶格匹配程度；2、基片表面溫度；3、蒸發(fā)功率，速率；4、真空度；5、鍍膜時間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。晶向均勻性：1、晶格匹配度;2、基片溫度;3、蒸發(fā)速率. 對于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實驗確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題，但是基本用于實驗研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題?

鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題？ 鍍膜技術(shù)發(fā)展需要解決哪些問題？有專業(yè)業(yè)界人士認(rèn)為，流行的鍍膜方式主要集中在真空鍍膜，像原始的鍍膜手段和方式的機會不大，對此就鍍膜技術(shù)來說，從現(xiàn)代環(huán)保節(jié)能要求看，化學(xué)鍍膜手段的確遇到挑戰(zhàn)，現(xiàn)在物流環(huán)保的真空鍍膜技術(shù)已獲得非常大的發(fā)展，現(xiàn)代鍍膜廠的轉(zhuǎn)型便是證明。 事實上，在化學(xué)鍍時代，鍍膜發(fā)展已經(jīng)陷入重污染的困境，很多一線城市禁止高污染企業(yè)單位進駐，一方面，加快環(huán)保鍍膜技術(shù)的研究有效解決問題，另一方面，剛出現(xiàn)的環(huán)保鍍膜技術(shù)也存在一些問題，在鍍膜技術(shù)快速發(fā)展的情況下，各家有實力的廠家都在積極的研發(fā)和探索。 不可否認(rèn)，鍍膜設(shè)備廠家一定要確實根據(jù)市場需求和社會環(huán)境要求來深度優(yōu)化產(chǎn)品，這樣才可市場占據(jù)有利地位。

真空鍍膜機真空室形變帶來的影響為盡量減小

真空鍍膜機真空室形變帶來的影響 為盡量減小真空鍍膜機真空室形變帶來的影響，我們將導(dǎo)軌、絲桿等傳動件固定于一個剛性的中間層上，其與真空室底壁之間采用點、線、面活性支撐，以吸收和隔離形變，并設(shè)置形變補償調(diào)節(jié)機構(gòu)，在系統(tǒng)抽真，參照有限元計算提供的理論數(shù)據(jù)預(yù)設(shè)適當(dāng)?shù)难a償量，以使其在真空狀態(tài)下達到平衡。 為了驗證有限元計算的結(jié)果，對真空室的形變和補償進行了測試。步，將四只千分表定位在工作臺安裝基點的真空壁外側(cè)，當(dāng)真空室由大氣抽到真空時，記錄各千分表的變化量，經(jīng)化處理后為用激光自準(zhǔn)直儀調(diào)變補償。