光學(xué)薄膜的技術(shù)性能和可靠性，直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性及成本。

光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實(shí)現(xiàn)了長足的進(jìn)展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。

光線射入玻璃基板時(shí)，會(huì)產(chǎn)生4%左右的反射而造成透過率的損失。但是，通過在玻璃基板上蒸鍍比玻璃的折射率更低的電介質(zhì)膜，可以改變玻璃基板的反射率。

真空電鍍：真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。今天電鍍加工廠給大家來講解下確定電鍍光亮劑的優(yōu)劣的方法，希望能給大家有更多的了解：低區(qū)走位好：即使是形狀復(fù)雜的鍍件,仍可在凹洼處鍍上合格鎳層,且沒有明顯色差為比較好。即在真空狀態(tài)中注入亞氣，亞氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導(dǎo)電的貨品吸附形成一層均勻光滑的表面層。其特點(diǎn)就是保色久，耐磨度好，但是由于其對環(huán)境要求較嚴(yán)格而且工藝相對比較復(fù)雜成本方面比一般電鍍要高。而水電鍍：水電鍍一般是指掛鍍。

真空鍍膜加工的表面硬度高化學(xué)鍍鎳層的硬度一般在HV300-600，高的甚至可達(dá)到HV700以上，而電鍍鎳的硬度僅為HV160-180，顯然化學(xué)鍍鎳層的硬度要遠(yuǎn)大于電鍍層的硬度.而其化學(xué)鍍鎳層經(jīng)過一定的熱處理后，其硬度還可以提高，可達(dá)HV900以上。膜分離法：是利用高分子所具有的選擇性來進(jìn)行物質(zhì)分離的技術(shù)，包括電滲析、反滲透、膜萃取、超過濾等。

化學(xué)性能穩(wěn)定，在高溫下不應(yīng)與蒸發(fā)材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。在高溫下某些蒸發(fā)源材料，與蒸發(fā)材料之間會(huì)產(chǎn)生反應(yīng)及擴(kuò)散而形成化合物和合金。使用溫度范圍寬,抗雜質(zhì)能力強(qiáng),對鎳離子含量有廣泛的適應(yīng)能力等。特別是形成低共熔點(diǎn)合金蒸發(fā)源容易燒斷。例如在高溫時(shí)鉭和金會(huì)形成合金，鋁、鐵、鎳、鈷也會(huì)與鎢、鉬、鉭等蒸發(fā)源材料形成合金。鎢還能與水或氧發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性的氧化物如WO、WO2或WO3;鉬也能與水或氧反應(yīng)而形成揮發(fā)性MoO3等。因此，應(yīng)選擇不會(huì)與鍍膜材料發(fā)生反應(yīng)或形成合金的材料做該材料的蒸發(fā)源材料。