公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

標定板圖紙內(nèi)容如下：

1.   需要附上材料

2.   精度

3.   外形尺寸公差，厚度

4.   制作效果圖紙：正負板之分等。（如果考慮價格因素，需要強調(diào)多少倍率下面允許看到瑕疵）

5.   需要提供詳細的CAD圖紙（圖紙i好不要畫比例圖紙）。以上為制作標定板完整信息

如需要烤版，烤版時要注意：①首先要選好烤版膠，烤版膠不能太臟。如用固體桃膠配制，一定要用熱水溶膠，膠要徹底溶開、過濾再用。光掩膜有掩膜原版(reticlemask，也有稱為中間掩膜，reticle作為單位譯為光柵)，用步進機重復將比例縮小到mastermaks上，應用到實際曝光中的為工作掩膜(workingmask)，工作掩膜由mastermask復i制過來。②把適量的烤版膠涂在版面上，用海綿將版面涂擦均勻。③烤版膠不能用干布擦拭。④版材在烘版箱中烘烤，圖像區(qū)域會均勻變色。不同的PS版，烘烤時間、溫度及終顏色會不一致，所以需通過試驗確定烤版條件。

光刻（英語：photolithography）是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。半導體集成電路制作過程通常需要經(jīng)過多次光刻工藝，在半導體晶體表面的介質(zhì)層上開鑿各種摻雜窗口、電極接觸孔或在導電層上刻蝕金屬互連圖形。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍寶石。