湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業(yè)；是集研發(fā)、生產、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

與氣體滲氮相比適應范圍廣泛。可用于不銹鋼模具的滲氮，利用離子的轟擊作用，可以內動去除不銹鋼、耐熱鋼模具表面的鈍化膜，可直接進行不銹鋼模具的滲氮。

兩種靶電源不同之處：選用(工藝型)雙極矩形波或正弦波中頻靶電源，因其輸出的電壓和電流的占空比可以大范圍連續(xù)調節(jié)，鍍膜時電源的工藝參數(shù)適應范圍比“經濟型”中頻靶電源要寬很多；在玻璃管兩端各接一平板電極，充入惰性氣體，加數(shù)百伏直流電壓，管內便產生輝光放電，其電流為10-4～10-2A。適用于需要經常變化的磁控濺射鍍膜工藝和不同材質的膜層。?(經濟型)雙極性矩形波或正弦波中頻靶電源的輸出電壓或電流的工藝調節(jié)范圍偏窄，若相關參數(shù)選配合適，一般可用于磁控濺射鍍膜工藝相對固定和單一的工業(yè)生產中，其優(yōu)點是靶電源價格可以相對便宜。??

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在陰極附近，二次電子發(fā)射產生的電子在較短距離內尚未得到足夠的能使氣體分子電離或激發(fā)的動能，所以緊接陰極的區(qū)域不發(fā)光。而在陰極輝區(qū)，電子已獲得足夠的能量碰撞氣體分子，使之電離或激發(fā)發(fā)光。1831~1835年,M.法拉第在研究低氣壓放電時發(fā)現(xiàn)輝光放電現(xiàn)象和法拉第暗區(qū)。1858年,J.普呂克爾在1/100托下研究輝光放電時發(fā)現(xiàn)了陰極射線，成為19世紀末粒子輻射和原子物理研究的先驅。當電壓的頻率增加到中頻時，起輝點火電壓比用純直流靶電源時降低很多。

Roth等人用離子捕獲原理解釋APGD，即當所用工作電壓頻率高到半個周期內可在極板之間捕獲正離子，又不高到使電子也被1捕獲時，將在氣體間隙中留下空間電荷，它們影響下半個周期放電，使所需放電場強明顯降低，有利于產生均勻的APGD。